Raster-Sonden-Mikroskop (AFM)

• Fachliche Zuordnung: Physik der kondensierten Materie
• Förderung: Förderung in 2008
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 106290395

Das Raster-Sonden-Mikroskop dient der Untersuchung der atomaren Oberflächenstruktur (Scanning Force Microscopy SFM - auch als Atomic Force Microscopy AFM bezeichnet, Scanning Tunneling Microscopy STM), der lokalen Ladungsträgerkonzentration, der Oberflächenleitfähigkeit und des Oberflächenpotenzials (Current sensitive SFM, Scanning Spreading Resistance Microscopy SSRM, Scanning Capacitance Microscopy SCM, Electrostatic Force Microscopy EFM), der magnetischen Domänenausbildung (Magnetic Force Microscopy MFM), der piezoelektrischen Eigenschaften (Piezoelectric Force Microscopy PFM) und der Nanostrukturierung (Nanolithography) von dünnen oxidischen Halbleiterfilmen und Einkristallsubstraten (z. B. ZnO, MgO, GaN basierte Systeme), dielektrischen Filmen (z. B. ZrO2, Al2O3, SiN, SiOx), von ferroelektrischen und multiferroischen Materialien (wie BaTiO3) und organischen Oberflächen mit atomarer Sub-Nanometer Auflösung sowohl lateral als auch senkrecht zur Oberfläche. Das Verständnis und die Kenntnis der genannten Materialeigenschaften auf einer atomaren Längenskala ermöglicht die Synthese neuartiger funktioneller Heterostrukturen. Die genannten Materialkombinationen stehen im Mittelpunkt der Forschungsaktivitäten im Sonderforschungsbereich 762 „Funktionalität Oxidischer Grenzflächen“, der Graduiertenschule „BuildMoNa“ und weiterer Projekte wie zum Beispiel der Forschgruppe 522. Somit dient das Gerät auch der Studenten- (B.Sc. und M.Sc. Physik und IPSP) und der strukturierten Doktorandenausbildung.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Gerätegruppe: 5091 Rasterkraft-Mikroskope
• Antragstellende Institution: Universität Leipzig
• Leiter: Professor Dr. Marius Grundmann