Entwurf, Optimierung, CMOS-kompatible Herstellung und Charakterisierung von abstimmbaren planaren/koplanaren DGS-Filtern
Final Report Abstract
Die im Rahmen des Projektes zu bearbeitende Aufgabenstellung beinhaltete das Design, die numerische Simulation und die Herstellung von abstimmbaren HF-Filterstrukturen. Hierzu wurden auf verschiedenen Entwurfsmethoden basierende Techniken, wie die DGS-, die Kaskadierungs-, die Multischicht- und die Ring-Resonatoren-Technik, zum Einsatz gebracht, um passive HF-Filter zu entwickeln, herzustellen und messtechnisch zu charakterisieren. Auf der Grundlage dieser Filterstrukturen, die unter der Anwendung von Varaktoren oder MEMS-Schaltern abstimmbar und in CMOS-kompatibler Technologie herstellbar sind, wurden verschiedene Lösungsansätze betrachtet und untersucht. Es wurden HF-MEMS-Schalter mit geringer Betätigungsspannung numerisch simuliert und darauf basierend hergestellt und untersucht. Die CMOS-kompatible Dünnschicht-MEMS-Technologie wurde weiterentwickelt und optimiert, um z.B. Niedertemperatur ECR-PECVD-Prozesse zur Abscheidung der dielektrischen Schichten aus Siliziumnitrid reproduzierbar und sicher abscheiden zu können, um so optimale HF-Eigenschaften des Dielektrikums zu erreichen. Die Trockenätz-Prozesse zur Strukturierung der eingesetzten Schichten mussten ebenfalls auf die Zielsetzung angepasst und optimiert werden.
