PECVD/PVD Dual-Beschichtungsanlage

• Fachliche Zuordnung: Molekülchemie
• Förderung: Förderung in 2010
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 158967037

„Ein wesentlicher Forschungsschwerpunkt des Antragstellers ist die plasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung. Für Neuentwicklungen bzw. vertiefende Forschung im Bereich der Schichtabscheidung mittels Plasmaverfahren soll im Arbeitskreis Mathur die PECVD/PVD-Dualanlage eine zentrale Rolle einnehmen. Die geplante Clusteranlage würde die beschriebenen Eigenschaften der Methoden von physikalischer und chemischer Schichtabscheidung kombinieren und die dabei gewonnenen Möglichkeiten der Prozessführung und Schichtentwicklung durch die Verwendung der im Arbeitskreis Mathur hergestellten Precursoren in den Optionen der zur Verfügung stehenden Schichtmaterialien für Zwecke der Grundlagenforschung bedeutend erweitern.“

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Gerätegruppe: 0920 Atom- und Molekularstrahl-Apparaturen
• Antragstellende Institution: Universität zu Köln
• Leiter: Professor Dr. Sanjay Mathur