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Raster-Auger-Mikroskopie-Anlage

Subject Area Condensed Matter Physics
Term Funded in 2010
Project identifier Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 159808768
 
Für die von den Antragstellern durchgeführten und geplanten Projekte, wie z.B. die Analyse vonDünnschichtsystemen, Ausscheidungsverhalten, Nanoteilchen und Korrosionsprozessen, ist diemikroskopische und chemische Analyse von Oberflächen auf nm-Skala mit sehr hoherOberflächenempfindlichkeit erforderlich. Die notwendigen Spezifikationen sind durch die Vereinigungvon Auger- und Rasterelektronenmikroskopie sowie Photoemissionsspektroskopie in einem Geräterreichbar. Die laterale Auflösung der Auger- und Rasterelektronenmikroskopie im beantragten Gerätliegt im Nanometerbereich. Die Informationstiefe sowohl der Auger-Elektronen-Spektroskopie als auchder Photoelektronenemissionsspektroskopie liegt im Bereich weniger Nanometer. An ein undderselben Stelle der Probe ist somit die Bestimmung der Topographie, der enthaltenen Elementesowie deren Bindungszustände möglich. Mit Hilfe von Ionensputtern ist des Weiteren die Aufnahmevon Auger-Tiefenprofilen möglich, wobei sowohl die laterale Auflösung wie auch die Tiefenauflösungim nm-Bereich liegt.“
DFG Programme Major Research Instrumentation
Instrumentation Group 1780 Photoelektronenspektrometer (UPS und XPS)
Applicant Institution Universität Augsburg
 
 

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