Lithographisch gesteuerte Assemblierung und ALD-Beschichtung von 2D- und 3D-Porenstrukuren für die Thermophotovoltaik und als thermische Barriereschichten (C03)

Zur Anwendung in der Thermophotovoltaik oder als thermische Barriereschichten sollen periodisch geordnete Nanostrukturen aus Metallen und Oxiden entwickelt werden. Mittels Interferenzlithographie werden großflächig strukturierte Oberflächen erzeugt, die die kontrollierte Assemblierung künstlicher Opale und die elektrochemische Oxidation von geordneten Al2O3-Membranen induzieren. Diese Trägerstrukturen sollen mittels ALD (von engl.: Atomic Layer Deposition, dt.: Atomlagenabscheidung) von Oxiden oder Metallen zu funktionalisierten photonischen Strukturen weiterverarbeitet werden, die erstmalig im gehobenen Temperaturbereich von 500 - 1200 °C erprobt werden sollen.

DFG-Verfahren Sonderforschungsbereiche

Teilprojekt zu SFB 986:  Maßgeschneiderte Multiskalige Materialsysteme - M3

Großgeräte RIE-Table-top Ätzer

Antragstellende Institution Technische Universität Hamburg

Mitantragstellende Institution Universität Hamburg

Teilprojektleiter Professor Dr. Kornelius Nielsch