Lithographically controlled assembly and ALD coating of 2D and 3D porous structures for thermophotovoltaics and thermal barrier coatings. (C03)

• Subject Area: Synthesis and Properties of Functional Materials
• Term: from 2012 to 2016
• Project identifier: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 192346071

Zur Anwendung in der Thermophotovoltaik oder als thermische Barriereschichten sollen periodisch geordnete Nanostrukturen aus Metallen und Oxiden entwickelt werden. Mittels Interferenzlithographie werden großflächig strukturierte Oberflächen erzeugt, die die kontrollierte Assemblierung künstlicher Opale und die elektrochemische Oxidation von geordneten Al2O3-Membranen induzieren. Diese Trägerstrukturen sollen mittels ALD (von engl.: Atomic Layer Deposition, dt.: Atomlagenabscheidung) von Oxiden oder Metallen zu funktionalisierten photonischen Strukturen weiterverarbeitet werden, die erstmalig im gehobenen Temperaturbereich von 500 - 1200 °C erprobt werden sollen.

• DFG Programme: Collaborative Research Centres
• Subproject of: SFB 986: Tailor-Made Multi-Scale Materials Systems - M3
• Major Instrumentation: RIE-Table-top Ätzer
• Applicant Institution: Technische Universität Hamburg
• Co-Applicant Institution: Universität Hamburg
• Project Head: Professor Dr. Kornelius Nielsch