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Röntgen-Photoelektronenspektroskop

Subject Area Condensed Matter Physics
Term Funded in 2012
Project identifier Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 222543225
 
Das Großgerät soll zu mehr als 90% in der Forschung eingesetzt werden. Der überwiegende Forschungsanteil ist auf die Plasmatechnologie, speziell Oberflächenmodifikationen, ausgerichtet. Ein entscheidendes Kriterium für die Auswahl der XPS als Analyseverfahren für plasmamodifizierte Oberflächen ist die gute Übereinstimmung von Behandlungstiefe durch die Plasmatechnologie und Informationstiefe des Messprinzips im Material. Grundsätzlich erlaubt das Messprinzip eine Elementanalyse an hochvakuumtauglichen Materialoberflächen. Darüber hinaus lassen sich mit der XPS-Analyse die chemischen Bindungszustände der Moleküle an den Werkstoffoberflächen zerstörungsfrei bestimmen. Man erhält dabei zunächst eine Antwort auf die Frage der qualitativen Elementaranalyse (z.B. Reinmetalle oder Oxide), um durch stöchiometrische Berechnungen auch zu quantitativen Ergebnissen (u.a. Oxidationsstufe, Bindungsart, Schichtdicke) zu gelangen. Da Plasmen je nach Gasart eine oxidative bzw. reduktive Wirkung auf Oberflächen haben, durch geeignete Arbeitsgaswahl aber auch Schichten aus der Gasphase abgeschieden werden können, bilden Erkenntnisse über die Bindungszustände plasmabehandelter Proben die Grundlage für eine wissenschaftlich fundierte Modellbildung bei der Wechselwirkung von Plasmen mit den jeweiligen Oberflächen. Die Möglichkeit der Tiefenprofilierung erweitert den Erkenntnisgewinn sogar um eine weitere geometrische Dimension.
DFG Programme Major Research Instrumentation
Instrumentation Group 1780 Photoelektronenspektrometer (UPS und XPS)
 
 

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