Integriertes Gloveboxsystem mit Rasterkraftmikroskop
Final Report Abstract
Das integrierte Gloveboxsystem aus drei unabhängigen Inert-Arbeitsplätzen wird insbesondere zur Herstellung, Nachbehandlung und Charakterisierung dünner Schichten aus molekularen Vorläufern genutzt. Durch die Möglichkeit, alle Arbeitsschritte von der Synthese der Präkursoren bis zur Untersuchung der Beschichtungen mittels Rasterkraftmikroskop unter ununterbrochenen inerten Bedingungen (Argon-Atmosphäre) durchzuführen, können jetzt auch hochempfindliche metallorganische Verbindungen für derartige Beschichtungen verwendet werden. Als Träger kommen u.a. Glas, Glimmer, Aluminium, Silicium und Gold zum Einsatz. Ein besonderes Augenmerk gilt niedervalenten Hauptgruppenverbindungen und siliciumreichen Clusterverbindungen, die als kristalline und/oder amorphe dünne Schichten abgeschieden und vor bzw. nach thermischer Behandlung mittels Kraftmikroskopie untersucht werden. Neuartige, ungesättigte monopodale Siliciumverbindungen mit π-konjugierten Spacern unterschiedlicher Länge binden an Gold (111)-Oberflächen und gesputterte Goldelektroden. Die Einzelproben wurden mittels c-AFM (conductive AFM), quantitativer nanoskaliger mechanischer Charakterisierung und Raster-Kelvin-Mikroskopie untersucht. Die UV/Vis Eigenschaften dieser Verbindungen in Lösung lassen sich mit Ergebnissen aus der Cyclovoltammetrie korrelieren, wobei einerseits die Siliciumverbindungen selbst und andererseits die modifizierten Goldelektroden eingesetzt wurden. Das Bindungsverhalten verschiedener oxidischer Nanopartikel mit ionischen Funktionalitäten an modifizierte Siliciumoberflächen wurde unter inerten Bedingungen mit Kontakt- und Nicht-Kontakt-Modi des Rasterkraftmikroskops untersucht.
Publications
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Philipp Willmes, Lukas Jung, Volker Huch, Cem B. Yildiz, David Scheschkewitz
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Nina Müller, Charlotte Heinrich, Kai Abersfelder, Guido Kickelbick
(See online at https://doi.org/10.1002/ciuz.201600730)