Plasma-Enhanced-CVD-Anlage kombiniert mit 3D Laser Lithographiesystem

• Fachliche Zuordnung: Werkstofftechnik
• Förderung: Förderung in 2013
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 231996899

„Nanostrukturen und nanostrukturierte Oberflächen sind von großem Interesse in der Mikroelektronik, zunehmend aber auch in elektrochemischen oder optischen Systemen wie Feststoffbatterien, Brennstoffzellen oder Gassensoren, photonischen Kristallen. Je nach Anwendung sind ‚finite-size‘ Effekte, nano-mechanische Eigenschaften, das große Verhältnis von Oberfläche zu Volumen oder beugende Strukturen auf der Längenskala von einigen 10 bis einigen 100 nm entscheidend für die Funktion. Zudem erlauben Nanostrukturen eine direkt Untersuchung mit Hilfe der Atomsonden-Tomographie und der Transmissionselektronenmikroskopie, und damit das Studium grundlegender Fragestellungen auf atomarer Ebene. Der Fachbereich Physik in Münster ist im Hinblick auf Festkörperanalytik sehr gut ausgestattet, hat aber bisher nur eine geringe Infrastruktur um Festkörper-Nanostrukturen im Bottom-Up Prozess herzustellen. Um diese Lücke zu schließen, soll eine Anlage beschafft werden, mit der aus der Gasphase in effektiver Weise Nanostrukturen (dünne Schichtfolgen, Nanodrähte, Quantenpunkte) gewachsen (PECVD Prozess) und zusätzlich über optische Lithographie (Laserlithographie) in Kombination mit einem Trockenätz-Prozess (RIE) nanostrukturierte Oberflächen und sogar dreidimensionale Strukturen hergestellt werden können.“

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Gerätegruppe: 0910 Geräte für Ionenimplantation und Halbleiterdotierung
• Antragstellende Institution: Universität Münster
• Leiter: Professor Dr. Rudolf Bratschitsch, seit 4/2014; Professor Dr. Guido Schmitz, bis 3/2014