Oxid-Nanostrukturen: Wachstum, Wachstumsmechanismen und Oberfächenreaktivität unter-sucht durch Atomlagenabscheidung im Millibar-Druckbereich (C04)

Im Fokus des Projekts stehen Wachstumsmechanismen und Grenzflächeneigenschaften von Metalloxiden, hergestellt durch selbstlimitierende Oberflächenreaktionen im Millibar-Druckbereich. Die zentrale Fragestellung zielt auf das Verständnis der strukturellen Entwicklung und den Einfluss von Oberflächenspezies auf das Wachstum von Metalloxiden. Dies soll durch die Entwicklung von Abscheidungsprozessen von Silikaten, Aluminosilikaten und Eisenoxiden auf verschiedenen Substraten, sowie durch Untersuchungen der Oberflächenreaktivität und der Grenzflächeneigenschaften mittels in situ FT-IR realisiert werden. Stabilitäts- und Lösungsverhalten werden durch in situ- und ex situ-Techniken studiert.

DFG-Verfahren Sonderforschungsbereiche

Teilprojekt zu SFB 1109:  Molekulare Einblicke in Metalloxid-Wasser-Systeme: Strukturelle Evolution, Grenzflächen und Auflösung

Großgeräte FT-IR spectrometer

Antragstellende Institution Humboldt-Universität zu Berlin

Teilprojektleiter Professor Dr. Nicola Pinna