Elektronenstrahl-Lithographiesystem

• Subject Area: Condensed Matter Physics
• Term: Funded in 2015
• Project identifier: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 268391591

Die gesamten Anstrengungen des Forschungslehrstuhles EP3 sind auf die Erforschung der elektronischen Eigenschaften von neuartigen Transportmaterialien und Bauteilen ausgerichtet. Nahezu alle Projekte des Lehrstuhles beinhalten das Wachstum eines Materials, dessen Nanostrukturierung sowie die Charakterisierung der Nanostruktur. Hochmoderne Nanolithographie, deren Herzstück ein Elektronenstrahllithograhiesystem bildet, ist daher für nahezu alle Aktivitäten der Gruppe grundlegend. Unser bestehendes Lithographiesystem hat seit der Inbetriebnahme im Jahr 2000 gute Dienste geleistet, allerdings nähert sich nach 14 Betriebsjahren das Ende der erwarteten Lebensdauer und eine baldige Zunahme von Betriebsstörungen ist zu befürchten. Zu dieser Befürchtung kommt die Tatsache hinzu, dass schon jetzt viele Komponenten nicht mehr verfügbar sind und das System nicht mit aktuellen Computer Betriebssystemen kompatibel ist. Dies bedeutet, dass sich Systemschäden nicht mehr durch einfache Reparaturen beheben lassen, sondern leicht sehr teuer oder aus Kompatibilitätsgründen sogar unmöglich werden können. Hinzu kommt, dass sich der Stand der Technik in der Lithographie im vergangenen Jahrzehnt derart weiterentwickelt hat, dass sich unser System nicht mehr auf dem neuestem Stand der Technik befindet. Dies betrifft neben weiteren Aspekten vor allem Schreibgeschwindigkeit, Durchsatz, Auflösung bei der Bildgebung, sowie Kontrolle des Belichtungspfades bei der Erzeugung von komplexen Formen. Das neue System würde aufgebaut um das Bisherige zu ersetzen und würde uns auch für das kommende Jahrzehnt gestatten an der Spitze des Gebietes der Lithographie von Nanostrukturbauteilen zu stehen.

• DFG Programme: Major Research Instrumentation
• Major Instrumentation: Elektronenstrahl-Lithographiesystem
• Instrumentation Group: 0910 Geräte für Ionenimplantation und Halbleiterdotierung
• Applicant Institution: Julius-Maximilians-Universität Würzburg
• Leader: Professor Dr. Laurens W. Molenkamp