Multispektrales abbildendes Ellipsometer mit integriertem Rasterkraftmikroskop

• Subject Area: Optics, Quantum Optics and Physics of Atoms, Molecules and Plasmas
• Term: Funded in 2015
• Project identifier: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 274136846

Der überwiegende Forschungsanteil ist auf die Plasma,- sowie die Laser-Plasma-Hybridtechnologie, hier im speziellen Oberflächenmodifikationen, ausgerichtet. Grundsätzlich dient das Großgerät der Untersuchung sowie der Aufklärung von Wechselwirkungsmechanismen unterschiedlicher Atmosphärendruckplasmen, sowie von Laser-Plasma-Hybridprozessen mit Festkörpern (z.B. Gläsern, Keramiken, Metallen, Halbleitern). Ein entscheidendes Kriterium für die Auswahl der Ellipsometrie als Analyseverfahren für plasmamodifizierte Oberflächen ist, dass das Messprinzip die berührungslose optische Bestimmung von Materialeigenschaften an Grenzflächen, Oberflächen sowie von Schichtsystemen mit einer Dickenauflösung im nm-Bereich unter Normaldruck erlaubt. Vorteilhaft wirkt sich hierbei aus, dass der Analysebereich der Ellipsometrie, sowie des integrierten Rasterkraftmikroskops und die Wechselwirkungsbereiche von Atmosphärendruckplasmen mit Materialoberflächen (einige 10 nm in die Oberfläche hinein) nahezu identisch sind.

• DFG Programme: Major Research Instrumentation
• Major Instrumentation: Multispektrales abbildendes Ellipsometer mit integriertem Rasterkraftmikroskop
• Instrumentation Group: 5360 Meßgeräte für gestreutes und reflektiertes Licht, optische Oberflächen-Prüfgeräte
• Applicant Institution: Hochschule für angewandte Wissenschaft und Kunst; Hildesheim/Holzminden/Göttingen
• Leader: Professor Dr. Wolfgang Viöl