Project Details
Projekt
High resolution electron beam lithography system
Subject Area
Optics, Quantum Optics and Physics of Atoms, Molecules and Plasmas
Term
Funded in 2016
Project identifier
Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 310719673
Für geplante Forschungsarbeiten im Bereich der Nano- und Quantenphotonik, der Materialphysik und Magnonik, sowie der Oberflächenphysik und Plasmonik ist ein leistungsfähiges Elektronstrahl-lithographiesystem mit höchster Auflösung, großem Schreibfeld und hoher Taktrate erforderlich um sicherzustellen, dass großflächige Belichtungen mit lokalen Nanostrukturen mit Abmessungen im Bereich weniger Nanometer reproduzierbar hergestellt werden können. An der WWU ist momentan kein ebeam-Schreiber verfügbar der für die Herstellung derartiger Strukturen verwendet werden könnte. Im Rahmen der Neuberufung von Prof. W. Pernice soll deshalb ein hochauflösender Elektronenstrahlschreiber angeschafft werden mit dem zugleich die Arbeitsfähigkeit der Gruppe hergestellt wird. Mit Hilfe des neuen Geräts sollen komplexe optische Schaltkreise erstellt werden für Anwendungen in der Quantenoptik, der Optomechanik sowie der chipbasierten Metrologie. Insbesondere hybride integrierte Systeme sollen untersucht werden, die nanoskalige Emitter und optische Elemente zur Signalverarbeitung verbinden. Unter Verwendung neuer Materialien soll in weitgehend ungenützte Wellenlängenbereiche im mittleren und langwelligen Infrarotbereich vorgedrungen werden. Das Gerät soll drüber hinaus als Nukleationspunkt für weitere Projekte im Bereich der Nanotechnologie dienen um eine leistungsfähige Lithographie Umgebung an der WWU aufzubauen und den Schwerpunkt Nanophysik weiter zu stärken.
DFG Programme
Major Research Instrumentation
Major Instrumentation
High resolution electron beam lithography system
Instrumentation Group
0910 Geräte für Ionenimplantation und Halbleiterdotierung
Applicant Institution
Universität Münster
