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Röntgendiffraktometer

Subject Area Electrical Engineering and Information Technology
Term Funded in 2016
Project identifier Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 318400280
 
Die Forschung an beiden beteiligten Instituten beschäftigt sich mit der Herstellung neuartiger Halbleiter-Heterostrukturen für den Einsatz in verschiedenen Feldern der Elektronik, Optoelektronik, Quantenoptik, Quantenelektronik oder Spintronik. Diese Schichtsysteme werden am IHFG mit dem Verfahren der MOVPE und am IHT mit dem Verfahren der Feststoffquellen-MBE hergestellt. Beide epitaktische Verfahren benötigen die Messungen der Gitterkonstanten in den hergestellten Halbleiterstrukturen. Aus diesen Parametern lassen sich verschiedene Eigenschaften der gewachsenen Schichten bestimmen. Dies können sowohl Kompositionen der Verbindungshalbleiter, deren verschiedene Verspannungszustände aber auch die kristalline Qualität des epitaktischen Films sein. In der heutigen Halbleiterforschung werden virtuelle Substrate für die Einstellung einer speziellen Gitterkonstante hergestellt, auf dem die eigentliche aktive Schicht abgeschieden wird. In diesem Schichtsystem ändern sich die Verspannungszustände in Abhängigkeit von der Tiefe und der jeweiligen Schicht. Die Messung dieses Schichtsystems lässt sich mit einem neuen Verfahren durch eine Röntgenmessung in der inplanen Ebene realisieren. Durch die Änderung des Einstrahlwinkels lässt sich ein Tiefenprofil der sogenannten in-plane Gitterkonstante erstellen. Aufgrund der Vergleichbarkeit und Anforderungen der Messaufgaben an beiden Instituten ist es sinnvoll, ein gemeinsames Gerät zu beschaffen. Der gemeinsame Antrag optimiert damit auch deutlich die Geräteauslastung.
DFG Programme Major Research Instrumentation
Major Instrumentation Röntgendiffraktometer
Instrumentation Group 4011 Pulverdiffraktometer
Applicant Institution Universität Stuttgart
 
 

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