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Halbautomatischer Wafer-Messplatz
Fachliche Zuordnung
Produktionstechnik
Förderung
Förderung in 2020
Projektkennung
Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 450639102
Halbautomatische Wafer-Meßplätze sind das modernste Werkzeug zur Strom-Spannungs-Charakterisierung (IV-Kurven) und zur Kapazitäts-Spannungs-Profilierung (CV-Kurven) von Halbleitersensoren und zur Messung ihrer Eigenschaften. Sie ermöglichen nicht nur einen sehr hohen Durchsatz, sondern erreichen auch eine sehr präzise Temperatur- und Umgebungskontrolle bei niedrigen Temperaturen, die für viele Anwendungen in der Halbleiterforschung notwendig ist. Der beantragte Wafer-Meßplatz wird von den beiden experimentellen Teilchenphysikgruppen der TU Dortmund genutzt. Die Arbeitsgruppe von Prof. Kröninger ist an Forschungsprojekten in der experimentellen Teilchenphysik und der medizinischen Physik beteiligt, mit dem Ziel, Synergien zwischen diesen beiden Bereichen zu schaffen. Aktuelle Forschungsprojekte, für die ein solcher Wafer-Meßplatz entscheidend ist, umfassen die Untersuchung des Sensordesigns und die Entwicklung von Qualitätskontrollmaßnahmen für den neuen ATLAS ITk-Pixeldetektor sowie die Forschung und Entwicklung von strahlungsharten Siliziumsensoren für zukünftige Experimente. Im Bereich der medizinischen Physik ist der Wafer-Meßplatz für die Untersuchung von Halbleiterdetektoren für die Protonentherapie, die Entwicklung eines Protonen-Radiographie-Systems sowie für die elektronische Dosimetrie mit Siliziumsensoren notwendig. Die Arbeitsgruppe von Prof. Albrecht ist am LHCb-Experiment beteiligt und wird den Wafer-Meßplatz für die Entwicklung eines Strahlmonitors sowie für die Forschung und Entwicklung von halbleiterbasierten Spurdetektoren für zukünftige Experimente, einschließlich dem LHCb-Upgrade II, nutzen.
DFG-Verfahren
Forschungsgroßgeräte
Großgeräte
Halbautomatischer Wafer-Messplatz
Gerätegruppe
2780 Spezielle Meß- und Prüfgeräte für Halbleiter und Röhren (außer 620-659)
Antragstellende Institution
Technische Universität Dortmund