Mechanismen und Dynamik der lokalen Plasma-Jet Oberflächenbearbeitung

• Applicant: Privatdozent Dr. Axel Schindler
• Subject Area: Electronic Semiconductors, Components and Circuits, Integrated Systems, Sensor Technology, Theoretical Electrical Engineering
• Term: from 1999 to 2005
• Project identifier: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 5466172

In den letzten Jahren fanden reaktive, nichtthermische Plasmen im atmosphärischen und subatmosphärischen Druckbereich zunehmend Anwendung in der Oberflächentechnologie. Hohe Materialabträge bei gleichzeitiger Erreichung schädigungsfreier oberflächennaher Bereiche sowie eine deutliche Kostenersparnis durch Wegfall aufwendiger Vakuumsysteme versprechen in der technologischen Anwen-dung dieser Plasmen viele Vorteile gegenüber herkömmlichen Niederdruckplasmaverfahren und mechanischen Oberflächenbearbeitungsmethoden. Bezüglich des Verständnisses der grundlegenden chemischen und physikalischen Prozesse im Plasmastrahl und bei der reaktiven Wechselwirkung zwischen Plasma und Oberfläche besteht noch ein erheblicher wissenschaftlicher Bedarf an detaillierten diagnostischen und kinetischen Grundlagenuntersuchungen. Sie sind unerlässlich für die gezielte Einflussnahme auf die Abtragsprozesse und ihre Optimierung.

• DFG Programme: Research Units
• Subproject of: FOR 365: Particle Beam Stimulated Ultra-Precision Surface Processing
• Participating Person: Privatdozent Dr. Hans-Erich Wagner