Structured gas phase micro deposition

• Applicants: Dr. Andreas Holländer; Professor Dr.-Ing. Frank Thiele
• Subject Area: Chemical and Thermal Process Engineering
• Term: from 2002 to 2006
• Project identifier: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 5342618

Wir einem dünnen Gasstrahl im Vakuum Energie zugeführt, kann das Gas zu Reaktionen angeregt werden. Richtet man den Strom eines geeigneten Gases dann auf ein Oberfläche, bildet sich dort eine Feststoffabscheidung. Die Form und die Größe dieser Abscheidung sowie deren chemische und physikalische Eigenschaften werden von den chemischen Eigenschaften des Gases und von den mechanischen Charakteristika des Gasstroms bestimmt. Die Ausdehnung der Abscheidung kann einige Millimeter betragen, aber acuh bis in den Submikrometerbereich verkleinert werden. Die konkreten Bedingungen (Gasdichte, -geschwindigkeit, Laufzeit im Vakuum, Energieeintrag etc.), die nötig sind, um eine fokussierte Abscheidung mit hoher Kantensteilheit zu erreichen, sind noch weitgehend unbekannt. Daher sollen die Ergebnisse der Modellierung des Gasstroms mit den Abscheidungsresultaten korreliert werden. Die so gewonnenen Erkenntnisse sollten es gestatten, die Abscheidung gezielt zu beeinflussen. Ziel des beantragten Projekts ist es, die an der Abscheidung beteiligten Prozesse und Zusammenhänge soweit zu verstehen, daß die Prozeßparameter mit guter Genauigkeit angegeben werden können, mit denen eine bestimmte Form und bestimmte Eigenschaften der Abscheidung erreicht werden.

• DFG Programme: Research Grants