Ultradünne Si3N4-Membranen als Austrittsfenster für abstimmbare Mikroplasma-basierte Vakuum-Ultraviolett-Photonenquellen

• Antragsteller: Dr. Luka Hansen
• Fachliche Zuordnung: Optik, Quantenoptik und Physik der Atome, Moleküle und Plasmen
• Förderung: Förderung seit 2025
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 561566288

Ziel dieses Projekts ist die Verwendung einer ultradünnen Si3N4-Membran als Austrittsfenster einer abstimmbaren Vakuum-Ultraviolett (VUV)-Mikroplasmaquelle bei Atmosphärendruck, die Photonen mit Energien bis zu 21,2 eV (58,4 nm) erzeugen kann. Die Stabilität der Membranen und das richtige Design der Mikroplasmaquelle sind die wichtigsten Herausforderungen und werden in diesem Projekt behandelt. Darüber hinaus werden ein absolut kalibriertes VUV-Spektrometer, das für Atmosphärendruckplasmen geeignet ist, und ein besseres Verständnis der Plasmaspezies und/oder der Wechselwirkung von VUV-Photonen mit der ultradünnen Si3N4-Membran geschaffen. Als Paradebeispiel für die Anwendungen einer solchen neuartigen VUV-Photonenquelle wird sie als Ionisierungsvorrichtung in einem Molekularstrahl-Massenspektrometersystem eingesetzt, um die derzeitigen Nachteile anderer Ionisierungsmethoden zu überwinden.

• DFG-Verfahren: Sachbeihilfen