Project Details
Projekt Print View

Laserinduzierte Oberflächenstrukturierung mit optischen Nahfeldern von Nanopartikeln

Subject Area Production Automation and Assembly Technology
Term from 2009 to 2011
Project identifier Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 79910483
 
Final Report Year 2013

Final Report Abstract

Im Rahmen dieses Projektes wurde die Nahfeldverteilung um maßgeschneiderte Nanostrukturen genutzt, um Strukturen auf ein Substrat zu schreiben, die weit kleiner als 100 nm Ausdehnung besitzen. In Silizium ablatierte Löcher zeigen Dimensionen von unter 20 nm, während durch Photopolymerisation abgeschiedene Partikel im Bereich von 50 nm liegen. Durch die verwendete Nanosphärenlithographie können großflächige Areale mit Nanostrukturen versehen werden. Während durch Femtosekundenbestrahlung Strukturen in das den metallischen Antennen unterliegende Substrat ablatiert werden, kann man durch längere Pulse dosiert den Schmelzvorgang in den Antennen erzeugen, und zwar korreliert mit der Nahfeldverteilung. Damit werden Spitzen starker Nahfeldüberhöhung abgerundet, womit die Feldverteilung selbst kontrolliert und modifiziert werden kann. Erstmals konnte durch eine detaillierte Modellierung der Felder mit numerischen Methoden eine quantitative Übereinstimmung mit den Ablationsmustern erzeugt werden. Dieses Instrument erlaubt somit eine Vorhersage und Optimierung der Feldverteilung. Insbesondere konnte geklärt werden, dass Feldverteilungen empfindlich auf die Multipolstrukturen der plasmonischen Anregung sind und somit Terminierungseffekte, wie Zwischenlagen oder Oxidschichten eine bedeutende Rolle spielen. Die quantitative Bestimmung von Feldverteilungen und Ablationschwellen hat wesentlich zum Verständnis beigetragen. Während die Nahfeldablation an Nanosphärenlithografiestrukturen bereits vor einiger Zeit von uns beschrieben wurde, hat sie sich inzwischen als praktikabler Prozess gezeigt, was nicht zuletzt daran zu sehen ist, dass in der ersten Antragsperiode des SPP auch zwei weitere Gruppen den Prozess nutzen.

Publications

 
 

Additional Information

Textvergrößerung und Kontrastanpassung