Niedertemperatur Atomlagenabscheidung auf funktionalen organischen Schichten und Systemen für die Anwendung im Bereich der organischen Elektronik

• Antragsteller: Dr. Jens Meyer
• Fachliche Zuordnung: Elektronische Halbleiter, Bauelemente und Schaltungen, Integrierte Systeme, Sensorik, Theoretische Elektrotechnik
• Förderung: Förderung von 2009 bis 2012
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 151696803

Das Forschungsvorhaben umfasst die Untersuchung von Niedertemperatur Atomic Layer Deposition (ALD) Prozessen und deren Wirkung auf sensitive funktionale organische Schichten und Bauelemente.Im Vordergrund steht die grundlegende Beschreibung der chemischen und physikalischen Wechselwirkungen von reaktiven ALD-Vorstufen mit organischen Schichten und Schichtsystemen. Hierauf aufbauend werden Konzepte entwickelt, sowohl dielektrische als auch leitfähige transparente Dünnschichten auf organischen Materialien abzuscheiden, ohne das in den organischen Schichten Degradationseffekte auftreten.Die Zielsetzung besteht in der Evaluierung und Entwicklung rückwirkungsfreier ALD Prozesse zur Implementierung neuer Eigenschaften und Funktionen optoelektronischer Anwendungen.

• DFG-Verfahren: Forschungsstipendien
• Internationaler Bezug: USA
• Gastgeber: Professor Dr. Antoine Kahn