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Feldemissions-Rasterelektronenmikroskop

Fachliche Zuordnung Physik der kondensierten Materie
Förderung Förderung in 2011
Projektkennung Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 189425807
 
Die unter Punkt 3.3. genannten Gruppen, die das hier beantragte hoch auflösende Feldemissions- Rasterelektronenmikroskop nutzen werden, arbeiten auf den Forschungsgebieten ultraschnelle Phänomene an Oberflächen, Magnetismus, Nano- und Biosensorik und Nano-Optik. Diese Forschungsthemen sind in das Landesforschungszentrum OPTIMAS (Optik und Materialwissenschaften) eingebunden. Alle Arbeitsgruppen betreiben Forschung an mit Mikro- und Nanostrukturen beschichteten magnetischen, metallischen und/oder dielektrischen Proben. Zur Untersuchung dieser Strukturen wird zurzeit ein Elektronenstrahl-Lithographie- System genutzt, das auf einer Feldemissions (FE)-Elektronensäule basiert, einsetzt. Weiter ist das Elektronenstrahl-Lithographie-System mit einem System zur Energiedispersiven Röntgenanalyse (EDX) ausgestattet. Im Laufe der letzten Jahre hat sich die Zahl der Aufträge zur Herstellung von Nanostrukturen mittels Elektronenstrahl-Lithographie (sogenannte Schreib-Jobs) beträchtlich erhöht, so dass hochaufgelöste Probenanalyse zeitlich kaum noch möglich ist. Eine kontinuierliche Analyse der hergestellten Mikro- und Nanostrukturen ist aber für die Qualitätssicherung und kontrollierte Durchführung von Experimenten unbedingt erforderlich. Deshalb wird hier in Ergänzung zum Elektronenstrahl-Lithographie-System ein hochauflösendes REM beantragt
DFG-Verfahren Forschungsgroßgeräte
Gerätegruppe 5120 Rasterelektronenmikroskope (REM)
 
 

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