Elektronenstrahllithographie System

• Fachliche Zuordnung: Physik der kondensierten Materie
• Förderung: Förderung in 2011
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 212181752

„Beantragt wird die Beschaffung eines Elektronenstrahllithographie-Systems für die Herstellung metal-lischer und dielektrischer Nanostrukturen. Die optischen Eigenschaften metallischer Nanostrukturen haben sich in den letzten Jahren zu einem der aktivsten Forschungsgebiete der modernen Optik entwickelt, sowohl im Hinblick auf die Grundla-genforschung als auch für zukünftige Anwendungen. Das große Interesse beruht maßgeblich auf der Möglichkeit, sichtbares oder nah-infrarotes Licht durch die metallische Nanostruktur in einem Raum-bereich mit Sub-Wellenlängen-Abmessungen zu konzentrieren. Basierend aus dem hieraus resultie-renden Feldverstärkungseffekt ergeben sich interessante Perspektiven für Anwendungen metallischer Nanostrukturen in der Sensorik, der nichtlinearen Optik, als optische Antennen sowie im Bereich der photonischen Metamaterialien. Für die Herstellung hochqualitativer metallischer Nanostrukturen ist die Elektronenstrahllithographie die ideale Fabrikationsmethode. Sie erlaubt die reproduzierbare und flexible Herstellung von Strukturen mit minimalen lateralen Abmessungen von weniger als 50 nm.“

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Gerätegruppe: 0910 Geräte für Ionenimplantation und Halbleiterdotierung
• Antragstellende Institution: Rheinische Friedrich-Wilhelms-Universität Bonn
• Leiter: Professor Dr. Stefan Linden