Ionenstrahlätzanlage
Final Report Abstract
Die Ionenätzanlage wird verwendet um definierte Strukturen für unterschiedliche Messungen zu produzieren. Hierzu wird in der Regel zuerst ein optisch reaktiver Fotolack auf die zu strukturierende Oberfläche aufgebracht. Der Lack kann mittels UV Belichtung strukturiert und ausgehärtet werden und schützt somit Bereiche der Probe die nicht geätzt werden sollen. Die Probe wird anschließenden in den Ionenstrahlätzer geladen in welchem dann die nicht geschützten Bereiche der Probe weggeätzt werden. Dies erlaubt eine flexible Strukturierung mehrerer cm² großer Probenoberflächen mit Strukturgrößen vom mm bis hin zu wenigen nm. Somit hergestellte Strukturen waren zwingend erforderlich um: deterministisch die Auswirkungen von Spin-Strom induzierter Domainwandbewegung zu untersuchen; den Nachweis für thermisch angeregte magnetischen Wellen erbringen zu können; die Supraleitung Konzentrationsabhängig in FeSe untersuchen zu können; mit Hilfe von nicht lokalen Spin-Ventilen Messungen der Spin-Diffusionslänge unterschiedlicher Materialien durchzuführen; den anomalen Hall Effekt von Heusler Verbindungen zu untersuchen; Kristallstress induzierte magnetoelatische Phasenübergänge zu untersuchen; Auswirkungen von nm Geometrien auf die magnetische Struktur abzubilden und zu untersuchen; Transportmessungen an neuartigen magnetischen Strukturen durchzuführen.
Publications
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