FIB/REM Zweistrahlgerät
Final Report Abstract
Das Zweistrahlsystem wird als Werkzeug zur Probencharakterisierung und Probenstrukturierung im Rahmen einer zentralen Einheit von vielen Arbeitsgruppen genutzt, die aus den Fachbereichen Physik, Maschinenbau und Biologie kommen. Dementsprechend vielfältig sind die mit der Anlage erzielten Ergebnisse. Wesentliche Beiträge wurden zur Charakterisierung der inneren Struktur dreidimensionaler aperiodisch deterministischer photonischer Strukturen geleistet: Durch Querschnitte mit dem fokussierten Ionenstrahl konnten die Strukturparameter zuverlässig ermittelt und mit den Herstellungsparametern abgeglichen werden. Diese Parameter waren die Grundlage für numerische Simulationen, die zu einer sehr guten Übereinstimmung mit den experimentellen Messdaten geführt haben. Desweiteren wird das Zweistrahlgerät zur Fabrikation nanoplasmonischer Systeme verwendet, die in Kombination mit Spinwellenleitern zur Untersuchung der magneto-plasmonischen Kopplung dienen. Ebenfalls erfolgreich eingesetzt wurde das Zweistrahlgerät zur Präparation von TEM-Lamellen aus Halbleitermaterialien, um z. B. epitaktisch gewachsene Quantenpunkte nachweisen zu können. In den materialwissenschaftlich arbeitenden Gruppen aus dem Fachbereich Maschinenbau wird das Zweistrahlgerät zur Präparation von TEM-Lamellen verwendet, um Gefügeveränderungen nachweisen zu können.
Publications
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GaSb quantum dots on GaAs with high localization energy of 710 meV and an emission wavelength of 1.3 μm. J. Crystal Growth 404 (2014) 48-53
J. Richter, J. Strassner, Th.H. Loeber, H. Fouckhardt, T. Nowozin, L. Bonato, D. Bimberg, D. Braam, A. Lorke
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Growth control of Ga(As)Sb quantum dots (QD) on GaAs with reflectance anisotropy spectroscopy (RAS). Proc. SPIE Vol. 9288 92880F (2014)
J. Strassner, J. Richter, Th. Loeber, H. Fouckhardt
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Monitoring of (reactive) ion etching (RIE) with reflectance anisotropy spectroscopy (RAS). Proceedings Arbeitstagung Oberflächenanalytik (AOFA 2014) (2014) 116-121
L. Barzen, J. Richter, H. Fouckhardt, M. Wahl, M. Kopnarski
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Influence of plasma composition on reflectance anisotropy spectra for in situ III-V semiconductor dry-etch monitoring. Appl. Surf. Sc. 357 (2015) 530-538
L. Barzen, A.-K. Kleinschmidt, J. Strassner, Chr. Doering, H. Fouckhardt, W. Bock, M. Wahl, M. Kopnarski
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Monitoring of (reactive) ion etching (RIE) with reflectance anisotropy spectroscopy (RAS) equipment. Appl. Surf. Sc. 328 (2015) 120-124
L. Barzen, J. Richter, H. Fouckhardt, M. Wahl, M. Kopnarski
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Ridge Waveguides - Tailored Components for a Wide Range of Applications. Optik & Photonik, Volume 10, Issue 5, pages 48–52, December 2015
M. Stolze, B. Weigand, J. A L'huillier
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Fabrication of lowloss ridge waveguides in z-cut lithium niobate by combination of ion implantation and UV picosecond laser micromachining. Proc. SPIE 9759, Advanced Fabrication Technologies for Micro/Nano Optics and Photonics IX, 97590E (14 March 2016)
M. Stolze, T. Herrmann, J. L'huillier
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Fundamental investigations of ultrashort-pulse micromachining of different types of crystalline lithium niobate Proc. SPIE 9735, Laser Applications in Microelectronic and Optoelectronic Manufacturing (LAMOM) XXI, 97350O (14 March 2016)
M. Stolze, T. Herrmann, J. L'huillier
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Removal of Curtaining Effects by a Variational Model with Directional Forward Differences
Jan Henrik Fitschen, Jianwei Ma, Sebastian Schuff
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Very high cycle fatigue of high-strength steels: Crack initiation by FGA formation investigated at artificial defects. Procedia Structural Integrity, 2016, 21st European Conference on Fracture
D. Spriestersbach, A. Brodyanski, J. Lösch, M. Kopnarski, E. Kerscher
