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Zwei-Photonen-Laserlithographiesystem für dreidimensionale Nano- und Mikrostrukturierung mittels direktem Laserschreiben

Fachliche Zuordnung Physik der kondensierten Materie
Förderung Förderung in 2013
Projektkennung Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 237201064
 
Erstellungsjahr 2017

Zusammenfassung der Projektergebnisse

Das Laserlithographiegerät wurde für 2D Druck mit Submikrometer-Auflösung zur Herstellung von Nanoantennen und plasmonischen Nanostrukturen benutzt. Weiterhin wurde es zur Herstellung von 3D Nano- und Mikrostrukturen benutzt. Darunter befinden sich Anwendungen in der Faseroptik, wo das Gerät zur Herstellung von Faserverbindern benutzt wurde. Desweiteren befinden sich Anwendungen in der Mikrooptik, wo das Gerät zur Herstellung von 3D Mikrolinsen benutzt wurde, darunter auf Glasfasern sowie auf Substraten wie auch direkt auf CMOS Chips oder Halbleiter-Quantenpunktproben. Dadurch wurde ermöglicht, großflächig plasmonische Nanostrukturen ohne Elektronenstrahllithographie für surface-enhanced infrared absorption Spektroskopie (resonante SEIRA-Nanoantennen Spektroskopie und Sensorik) durchzuführen. Weiterhin ermöglichte das Geräte, zur Superkontinuumserzeugung in Glasfaserkapillaren, die hoch nichtlineare Flüssigkeiten enthielten, eine blasenfreie Verbindung zu Singlemode Fasern herzustellen. Desweiteren eröffnete das Gerät ein ganz neues Feld: die 3D gedruckte Mikrooptik mit komplexen Linsen. Auf diesem Gebiet ist unsere Arbeitsgruppe aufgrund des Gerätes Pionier und konnte demonstrieren, daß sowohl auf single-mode Glasfasern, auf Substraten sowie auf CMOS Sensoren hochwertige, bis zu beugungsbegrenzte Mikro-Objektive geschrieben werden können. Ebenso kann bei LED Chips effiziente Strahlformung durchgeführt werden. Desweiteren können Quantenpunkte bzgl. Abstrahlung effizienter gemacht werden. Ohne das Gerät wäre keine dieser Arbeiten möglich gewesen. Das Gerät diente dabei als Schlüsselkomponente bei der Herstellung.

Projektbezogene Publikationen (Auswahl)

 
 

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