Elektronenstrahlverdampfungsanlage

• Fachliche Zuordnung: Physik der kondensierten Materie
• Förderung: Förderung in 2013
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 240600298

„Wir beantragen eine UHV Elektronenstrahl-Aufdampfanlage mit Ladeschleuse, Ionenkanone und schwenkbarem Probenhalter als Ergänzung der Nanofabrikationseinrichtung des Instituts. Derzeit verfügen wir nur über eine Sputteranlage, die für die meisten benötigten Prozesse nicht geeignet und altersbedingt nur schwer zu warten ist. Durch die Neueinrichtung des Lehrstuhls von Prof. Bluhm mit Schwerpunkt Spinqubits wird eine, insbesondere für Liftoff-Prozessierung geeignete Aufdampfanlage benötigt. Die zu verarbeitenden Materialien erfordern einen Elektronenstrahlverdampfer. Zwar existieren zwei solche Anlagen in anderen Instituten, jedoch sind diese so hoch ausgelastet, dass eine Mitnutzung dauerhaft nicht tragfähig ist. Eine der bestehenden Anlagen kann in Zukunft so auf CMOS-kompatible Materialien beschränkt werden. Die neue Anlage wird zunächst vornehmlich durch fünf Gruppen der Physik und Elektrotechnik genutzt, soll längerfristig jedoch in eine geplante shared user facility überführt werden und so weiteren Nutzern zugänglich sein.“

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Großgeräte: Elektronenstrahlverdampfungsanlage
• Gerätegruppe: 8380 Schichtdickenmeßgeräte, Verdampfungs- und Steuergeräte (für Vakuumbedampfung, außer 833)
• Antragstellende Institution: Rheinisch-Westfälische Technische Hochschule Aachen
• Leiter: Professor Dr. Hendrik Bluhm