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Untersuchungen zur Dynamik schnell-veränderlicher Plasmarandschichten bei der Plasma-Immersions-Ionenimplantation mittels nicht-konventioneller Diagnostik

Fachliche Zuordnung Optik, Quantenoptik und Physik der Atome, Moleküle und Plasmen
Beschichtungs- und Oberflächentechnik
Förderung Förderung von 2014 bis 2018
Projektkennung Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 255310609
 
Bei der Plasmaimmersionsionenimplantation (PIII) handelt es sich um ein plasmatechnologisches Verfahren zur Implantation von Ionen in Oberflächen. Dabei wird das zu behandelnde Substrat in ein Plasma eingetaucht (Immersion) und dort mit kurzen negativen Hochspannungspulsen im Kilovolt-Bereich beaufschlagt, sodass sich während des Pulses durch die Verdrängung der Elektronen vor dem Substrat eine stark vergrößerte Plasmarandschicht ausbildet. Die Ionen werden in dieser Raumladungsschicht auf die Oberfläche beschleunigt und gewinnen dabei genug Energie für eine Implantation in die Festkörperoberfläche. Der Vorteil der PIII gegenüber der konventionellen Ionenimplantation mit Hilfe von Ionenstrahlquellen besteht insbesondere in der Möglichkeit, dreidimensionale, d.h. gekrümmte und verwinkelte, Oberflächen homogener zu behandeln, als dies mit einer Breitstrahlionenquelle möglich wäre. Somit kann PIII - in Kombination mit gleichzeitiger Beschichtung oder auch als reine Implantation - die Homogenität für komplexe, 3D-Bauteile prinzipiell verbessern. Für eine Optimierung der PIII ist eine möglichst vollständige Prozessdiagnostik notwendig. Das Ziel des Projekts ist die umfassende Charakterisierung der PIII-Randschichtdynamik bei zeitveränderlichen Randschichtspannungen mittels verschiedener, moderner Diagnostiken sowohl für kondensierende als auch nicht kondensierende Plasmen. Fundamentale Einblicke insbesondere in die bisher nicht oder wenig untersuchte Rückbildung der Randschicht bei Reduktion der Randschichtspannung sowie des Einflusses der Sekundärelektronen auf die Dynamik werden untersucht. Die Ergebnisse sollen bei der Verbesserung der Homogenität bei Ionenimplantation und ionengestützter Beschichtung eingesetzt werden. Zusätzlich zu den herkömmlichen Methoden (z.B. Strom-Spannungs-Charakteristika, Langmuir-Sondenmessungen etc.) sollen speziell nicht-konventionelle Methoden (z.B. Partikeldiagnostik, kalorimetrische Sonden etc.) verwendet werden.
DFG-Verfahren Sachbeihilfen
Großgeräte Hochgeschwindigkeitskamera
Gerätegruppe 5430 Hochgeschwindigkeits-Kameras (ab 100 Bilder/Sek)
 
 

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