Ultra-clean magnetron sputter system

• Fachliche Zuordnung: Physik der kondensierten Materie
• Förderung: Förderung in 2017
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 387160248

Für geplante Forschungsarbeiten im Bereich der Quantenoptik, Nanophotonik und supraleitenden Materialien ist ein leistungsfähiges Magnetronsputtersystem erforderlich. Das System muss eine Ultrahochvakuum Umgebung zur Verfügung stellen in der dünne, hochreine Filme aus Niob-basierten Supraleitern mit kontrollierbaren Materialeigenschaften hergestellt werden können. An der WWU ist momentan kein Sputtersystem verfügbar, das solchen Anforderungen gerecht wird. Im Rahmen der Neuberufung von Prof. C. Schuck soll deshalb ein Sputtersystem angeschafft werden, welches hochwertige Supraleiter von wenigen Nanometern Schichtdicke für die Fertigung von Einzelphotonendetektoren erzeugt. Diese neuartige Detektortechnologie wurde von Prof. C. Schuck maßgeblich mitentwickelt und ist elementarer Bestandteil seiner Forschungsaktivitäten. Ein entsprechendes Sputtersystem für supraleitende Materialien ist daher erforderlich, um die Arbeitsfähigkeit der Gruppe zu gewährleisten. Mit dem neuen Gerät sollen supraleitende Schichten von 3-10 nm Dicke hergestellt werden, die dann mit Hilfe lithographischer Techniken im Nanobereich strukturiert werden. Im Bereich der Materialphysik soll das System für elektronenmikroskopische Strukturuntersuchungen an supraleitenden Dünnfilmen verwendet werden. Durch die Einbettung in den Forschungsschwerpunkt Nanophysik soll das Gerät einem interessierten Nutzerkreis zugänglich gemacht werden und die Nanostrukturierungsmöglichkeiten an der WWU entscheidend stärken.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Großgeräte: Ultra-clean magnetron sputter system
• Gerätegruppe: 8330 Vakuumbedampfungsanlagen und -präparieranlagen für Elektronenmikroskopie
• Antragstellende Institution: Universität Münster
• Leiter: Professor Dr. Carsten Schuck