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Neuartige Halbleitermaterialien mit großer Bandlücke zur Anwendung in der Optoelektronik und für die Grundlagemnforschung

Fachliche Zuordnung Elektronische Halbleiter, Bauelemente und Schaltungen, Integrierte Systeme, Sensorik, Theoretische Elektrotechnik
Förderung Förderung von 2019 bis 2023
Projektkennung Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 405782347
 
Erstellungsjahr 2023

Zusammenfassung der Projektergebnisse

In dem Projekt wurden neuartige Aspekte von GaN-basierten UV-sensitiven und selbstsperrenden Bauelementkonzepten untersucht. Abhängig vom Hintergrundniveau der Restverunreinigungen kann im Dunkeln ein 2DEG in hochreinen GaN/AlGaN-Schichtstapeln gewachsen mittels MBE fehlen. Diese Eigenschaft ermöglicht die Herstellung von lateralen, selbstsperrenden Feldeffekttransistoren. Darüber hinaus repräsentiert diese Eigenschaft eine neue Klasse UV-sensitiver Bauelemente, da ein 2DEG optisch erzeugt werden kann. Magnetotransportuntersuchungen bei tiefen Temperaturen belegen, dass der Quantentransport und die 2DEG-Beweglichkeit in diesen lichtinduzierten 2DEGs durch elastische Streuereignisse begrenzt sind. Streuereignisse werden von einem bisher nicht identifizierten tiefen Akzeptor dominiert, welcher nicht Kohlenstoff sein kann. Die Bindungsenergie dieses Akzeptors unterscheidet sich nur um 120 meV von der von Kohlenstoff. Diese Erkenntnis impliziert ebenfalls, dass die Tieftemperaturbeweglichkeit des 2DEG nicht durch die Dichte der geladenen Versetzungen begrenzt ist, wie dies in der Vergangenheit berichtet wurde. Durch eine systematische Variation der GaN/AlGaN-Schichtstapelarchitektur war es möglich, niedrige 2D-Dichten zu erzielen, welche für grundlegende Untersuchungen von GaN/AlGaN-basierten 2DEGs innerhalb des Quanten-Hall-Regimes erwünscht sind. Weiterhin wurde die Rolle atmosphärischer Siliziumanhaftungen auf der Oberfläche von GaN-Substraten untersucht. Sind die GaN- Substrate einer Reinraumumgebung ausgesetzt führt dies zu einen durch Silizium hervorgerufenen parasitären Kanal an der Substrate/MBE-Grenzfläche, welcher den Betrieb von lateralen Feldeffekttransistoren und das Quantentransportverhalten beeinflusst. Es konnte gezeigt werden, dass das Silizium an der Oberfläche des GaN-Substrates durch Kohlenstoff kompensiert werden kann, der parasitäre Kanal bei tiefen Temperaturen verschwindet und damit die unverfälschten 2DEG-Eigenschaften zu Tage treten.

Projektbezogene Publikationen (Auswahl)

 
 

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