3D-Mikro-/Nanolithografiesystem auf Basis der Zwei-Photonen-Lithografie

• Fachliche Zuordnung: Chemische Festkörper- und Oberflächenforschung
• Förderung: Förderung in 2018
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 408925487

Das beantragte 3D-Mikro-/Nanolithografiesystem soll die vorhandenen Systeme zur planaren (2D-)Lithografie (Fotolithografie und Elektronenstrahllithografie) im Mikro-/Nanostrukturierungslabor MiNaLab des Zentrums für Materialforschung ZfM/LaMa der Justus-Liebig-Universität methodisch ergänzen. Das System soll für verschiedene, in den Forschungsbeiblättern einzeln dargelegte Forschungsvorhaben aus den Bereichen der Materialwissenschaften, Physik und Chemie genutzt werden. Die in den Beiblättern skizzierten, exemplarischen Forschungsthemen lassen sich entweder nicht mit planarer Lithografie im zeitlich vertretbaren Rahmen umsetzen oder gehen deutlich über das mit 2D-Techniken technisch Machbare hinaus. Die erfolgreiche Umsetzung der Forschungsvorhaben erfordert Spezifika der 3D-Lithografie zur Erzeugung von Strukturen in der dritten Dimension. Vorarbeiten, die von den Antragstellern an anderen Institutionen mit dem beantragten Gerät ähnlichen Systemen durchgeführt wurden, zeigen den signifikanten Mehrwert dieser Technik für die geplanten Forschungsaufgaben auf. Die intensive Weiterverfolgung dieser Forschungsaufgaben setzt den Zugang zu einem eigenen Gerät voraus. Ein geeigneter Aufstellungsort steht in den Räumen des MiNaLab zur Verfügung. Technisches Personal für Wartung und Betrieb des Gerätes werden durch das ZfM/LaMa gestellt, so dass ideale Voraussetzungen für die Nutzung des Gerätes im Forschungsbetrieb gegeben sind.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Großgeräte: 3D-Mikro-/Nanolithografiesystem auf Basis der Zwei-Photonen-Lithografie
• Gerätegruppe: 0910 Geräte für Ionenimplantation und Halbleiterdotierung
• Antragstellende Institution: Justus-Liebig-Universität Gießen
• Leiter: Professor Dr. Peter J. Klar