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Projekt
In-situ Tieftemperatur Elektronenstrahl-Lithographie System
Fachliche Zuordnung
Physik der kondensierten Materie
Förderung
Förderung in 2019
Projektkennung
Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 417431145
Die Strukturierung von Halbleitermaterialien mit höchster räumlicher Auflösung im Nanometer-Bereich, vor allem mittels deterministischer Verfahren, ist von höchster Wichtigkeit für die Weiterentwicklung und Herstellung von niederdimensionale Halbleiterstrukturen für nanophotonische und quantenoptische Anwendungen. In diesem Zusammenhang wurde in den letzten fünf Jahren die in-situ Elektronenstrahl-Lithografie als deterministische und zukunftsweisende Nanotechnologie-Plattform entwickelt und sehr erfolgreich wissenschaftlich eingesetzt. Diese innovative Nanotechnologieplattform basiert auf Tieftemperatur-Kathodolumineszenzspektroskopie für eine hochpräzise räumliche und spektrale Selektion von einzelnen Photonenemittern und die sofortige Strukturdefinition bei ebenfalls tiefen Temperaturen mittels Elektronenstrahl-Lithografie. Bislang wurden deterministisch (spektrale und örtliche Selektion) und mit großer Prozessausbeute einzelne Quantenpunkte in effiziente Strukturen für Einzelphotonenemitter und on-Chip Wellenleiterstrukturen integriert. Unsere aktuelle Gerätschaft basiert auf einem 33 Jahre alten Rasterelektronenmikroskop mit selbst entwickelter Kathodolumineszenzspekroskopie- und Elektronenstrahl-Lithografie-Funktionalität. Diese Anlage stößt mit Blick auf aktuelle und zukünftige Entwicklungen im Bereich nanophotonischer Strukturierung mittels Elektronenstrahl-Lithografie in den Bereichen Auflösung und Schreibfeldgröße längst an ihre gerätetechnischen Grenzen. Es ist weder ein Interferometer-Tisch noch ein versatzfreier Schreibmodus für größere Strukturen verfügbar. Weiterhin wurde der Support durch den Hersteller 2014 eingestellt. Für weitere Fortschritte und einen zukünftig gesicherten Betrieb ist ein modernes höchstauflösendes in-situ Elektronenstrahl-Lithografie System unabdingbar, das über einen hochpräzisen Interferometer-Tisch und eine versatzfreie Schreibtechnik für ausgedehnte Strukturen verfügt.
DFG-Verfahren
Forschungsgroßgeräte
Großgeräte
In-situ Tieftemperatur Elektronenstrahl-Lithographie System
Gerätegruppe
0910 Geräte für Ionenimplantation und Halbleiterdotierung
Antragstellende Institution
Technische Universität Berlin
