Lithographiesystem

• Fachliche Zuordnung: Physik der kondensierten Materie
• Förderung: Förderung in 2019
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 421755099

Lithographie ist für die Herstellung von elektronischen Bauelementen und Schaltungen, Sensoren, MEMS oder Kontakten zu nanoskopischen Quantensystemen unabdingbar. Die am Institut genutzte Fotolithographie beruht bisher auf der Verwendung von Muttermasken. Die benötigten Muttermasken werden durch Fremdfirmen gefertigt. Dieses Verfahren ist jedoch aufwendig und sehr zeitraubend. Zudem ist es sehr unflexibel und führt immer wieder zu mehrwöchigen Unterbrechungen der Projektarbeiten. Das beantragte Gerät ermöglicht die flexible, maskenlose Belichtung beliebiger Strukturen. Die maximal erreichbare Auflösung einer Standard-Fotolithographie beträgt zudem nur 600 nm. Um in den Nanometerbereich vorzurücken, muss die Lithographie mittels E-beam oder einer AFM-basierten Technik erweitert werden. Das beantragte Gerät kombiniert die hochauflösende Fotolithographie mit der Nanolithographie, um Bauelemente auch für Nanotechnologie herstellen zu können. AFM-basierte Lithografie, entwickelt an der Universität Ilmenau, kann in den einstelligen Nanometerbereich vordringen. Dabei wird die AFM-Spitze als Elektronenemitter genutzt, und kann so kontaktfrei Polymere strukturieren. Zur sofortigen Kontrolle der Strukturen sollen die Lithographie-Geräte im Reinraum zusammen mit einem Raster-Elektronenmikroskop betrieben werden.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Großgeräte: Lithografiesystem
• Gerätegruppe: 0910 Geräte für Ionenimplantation und Halbleiterdotierung
• Antragstellende Institution: Universität Leipzig
• Leiter: Professor Dr. Marius Grundmann