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Direktschreibendes Laser-Lithographie System (DLLS)

Fachliche Zuordnung Physik der kondensierten Materie
Förderung Förderung in 2019
Projektkennung Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 427122702
 
Das Nano Structuring Center ist eine Einrichtung der TU Kaiserslautern und wird als Service-Center ("core facility") geführt. Es verfügt schon jetzt über eine umfangreiche Ausstattung zur Mikro- und Nanostrukturierung von Substraten und Schichten. Das hier beantragte direktschreibende Laser-Lithographie System soll die Brücke schlagen zwischen der Masken-nutzenden UV-Photolithographie und der ebenfalls direktschreibenden Elektronenstrahl-Lithographie. Durch maskenloses Lithographieren von UV-empfindlichen Photolacken wird dank direktschreibender Laser-Lithographie ein "rapid prototyping" von Schichtstrukturen und erstmals auch die Herstellung von 3-dimensionale (3D)-Strukturen in Photolacken bzw. Schichten ohne die zeit- und kostenintensive Herstellung von Graustufen- bzw. Photolithographie-Masken möglich. Durch das Schreiben von Strukturen teils mit Elektronenstrahl-, teils mit Laser-Lithographie ("mix and match") sollen Proben zudem schneller und kostengünstiger hergestellt werden können. Das Nano Structuring Center beantragt das Laser-Lithographie System zusammen mit drei weiteren Arbeitsgruppen aus den Fachbereichen Physik und Elektro- und Informationstechnik, die in den Gebieten der mikrooptischen Bauelemente, Mikroresonatoren, Metamaterialien für den Terahertz-Bereich, der Transversalmoden-Selektion von Halbleiter-Lasern und mikrofluidischen Mikrolinsen arbeiten. Diese Gruppen würden das Laser-Lithographie System zunächst hauptsächlich für das "rapid prototyping" einsetzen und dann auch für die Herstellung von 3D-Strukturen direkt in Photolacken. Es sei aber ausdrücklich darauf hingewiesen, dass die im Nano Structuring Center vorhandenen Geräte allen Gruppen und Institutionen der TU Kaiserslautern zur Verfügung stehen. Das Nano Structuring Center wird nach Bewilligung und Installation des Laser-Lithographie Systems Prozessentwicklung- und optimierung betreiben und im Anschluss die Nutzenden in das System einweisen und mit ihnen zusammen weitere Prozesse erarbeiten und optimieren. Die dafür notwendigen Mitarbeitenden sind im Nano Structuring Center festangestellt und verfügen über langjährige Erfahrung in den Bereichen der Photo- und Elektronenstrahl-Lithographie.
DFG-Verfahren Forschungsgroßgeräte
Großgeräte Direktschreibendes Laser-Lithographie System (DLLS)
Gerätegruppe 0910 Geräte für Ionenimplantation und Halbleiterdotierung
 
 

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