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Analyse des Ladungstransports in radialen und axialen ladungstrennenden Kontakten aus III/V Halbleiter-Nanodrähten

Fachliche Zuordnung Experimentelle Physik der kondensierten Materie
Förderung Förderung von 2019 bis 2023
Projektkennung Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 428769263
 
Erstellungsjahr 2023

Zusammenfassung der Projektergebnisse

Halbleiter-Nanodrähte stießen vor 20 Jahren das Tor weit auf zu einer neuen Form der Miniaturisierung elektronischer und optoelektronischer Bauelemente. Die Epitaxie von kristallinen, flächigen und modulations-dotieren Halbleiterschichten, die in Wachstumsrichtung eine Materialkontrolle im atomaren Maßstab ermöglicht, wurde in die dritte Dimension erweitert. Die in 3-D kontrolliert epitaktisch gewachsenen Drähte reduzieren den Materialverbrauch auf das aktive Bauelement. Da das Gitter der nm-dünnen Drähte sich elastisch verhält, konnten die Begrenzungen der Materialkombination in Halbleiter-Heterostrukturen durch die einfache Kristallrelaxation der dünnen Drähte enorm erweitert werden. Trotz dieser großen Vorteile gelang es noch nicht, Nanodraht (ND)-basierte Bauelemente kommerziell zu etablieren, z. B für Bauelemente wie Bipolar-Transistoren, Solarzellen oder Laser. Einer der wesentlichen Gründe ist die Problematik der hohen Leckströme in Ladungs-trennenden pn-Übergängen. Dieses Projekt zielt genau auf dieses Defizit mit dem umfassenden Anspruch, die physikalischen Mechanismen zu identifizieren, im ND zu lokalisieren und Ansätze zur Unterdrückung zu demonstrieren. Die Identifikation der physikalischen Mechanismen wurde durch eine Kombination von experimentellen Studien und physikalischer Simulation im System GaAs/GaInP vorangetrieben. Es wurde klar deutlich, dass das Shockley-Read-Hall Modell, welches pn-Übergänge aus optimierten pn-Übergängen in Halbleiterschichten perfekt beschreibt, nicht hinreichend ist. Die Kombination von experimentellen und Simulations- Studien zum pn-Übergang führten zur Erkenntnis, dass Tunnel-unterstütze Rekombinations- Mechanismen das Leckstrom-Verhalten im ND-pn-Übergang dominieren. Bei den vertikalen, auf dem Wachstumssubstrat verbliebenen Nanodrähten konnte zudem durch 4-Punkt- Messungen mit einem Multispitzen-Rastertunnelmikroskop (MT-STM) ein zusätzlicher Leckpfad über das Wachstumssubstrat lokalisiert werden, der für auf Kern-Mantel-Strukturen basierenden ND-Solarzellen von hoher Relevanz ist. Zudem wurde der Kontakt zwischen den Spitzen des MT-STMs und ND eingehend charakterisiert, bei dem im Allgemeinen Aufladungsund Entladungsprozesse auftreten, die zu Hysteresen führen und bei den STM-Messungen zu berücksichtigen sind. Die Erkenntnisse zu den Mechanismen und der Lokalisierung wurden erfolgreich für die Reduzierung des Leckstromes in Sperrrichtung umgesetzt. Hierzu wurden in die pn-Übergänge Abstandsschichten eingefügt, die den Leckstrom um 5-6 Größenordnungen absenken, ohne die Stromdichte in Flussrichtung merklich zu reduzieren. Mit diesem Ansatz wurde in Kooperation mit Partnerprojekten erfolgreich ND-Bauelemente erstellt. So gelang mittels axialen pn-ND-Strukturen die Herstellung eines äußerst leistungsstarken Detektors für harte Röntgenstrahlung sowie die erstmalige Realisierung eines ND-Hetero-Bipolartransistors, der eine aktive Stromverstärkung ausweist. Hiermit wurden grundlegende Erkenntnisse zum Leckstrom-Verhalten erfolgreich in Bauelemente umgesetzt.

Projektbezogene Publikationen (Auswahl)

 
 

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