VUV Quelle für hochauflösende (Energie/Impuls/Ort) Photoemission

• Fachliche Zuordnung: Physik der kondensierten Materie
• Förderung: Förderung in 2020
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 445238239

Die Arbeitsgruppe des Antragstellers befasst sich mit der Herstellung und Untersuchung von ultradünnen, epitaktisch gewachsenen Adsorbatfilmen auf Halbleitersubstraten, von Submonolagenbedeckungen bis zu Filmdicken im Bereich von einigen 10 nm. Das wissenschaftliche Interesse richtet sich dabei insbesondere auf die ungewöhnlichen elektronischen Eigenschaften von 1D Atomketten, 2D Dreiecksgittern mit starken elektronischen Korrelationen und topologischen Isolatoren mit ihren speziellen Randzuständen. Als experimentelle Methoden werden hierfür hauptsächlich die winkelaufgelöste Photoelektronenspektroskopie (ARPES) sowie die Rastertunnelmikroskopie und -spektroskopie (STM/STS) verwendet. Aufgrund ihres intrinsischen Oberflächencharakters müssen alle genannten Filmsysteme in situ (d.h. vollständig unter Ultrahochvakuumbedingungen) hergestellt und untersucht werden. Die momentan zur Verfügung stehende ARPES-Anlage kommt allerdings hinsichtlich der örtlichen und energetischen Auflösung, als auch ihres effizienten Probendurchsatzes an ihre Grenzen. Aus diesem Grund soll eine dedizierte, VUV Quelle auf dem Stand der Technik beschafft werden, die die bisherigen Begrenzungen überwindet und stark verbesserte Forschungsmöglichkeiten eröffnet.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Großgeräte: VUV Quelle für hochauflösende (Energie/Impuls/Ort) Photoemission
• Gerätegruppe: 1780 Photoelektronenspektrometer (UPS und XPS)
• Antragstellende Institution: Julius-Maximilians-Universität Würzburg
• Leiter: Professor Dr. Ralph Claessen