Plasmaätz- und Beschichtungs-Clusteranlage

• Fachliche Zuordnung: Physik der kondensierten Materie
• Förderung: Förderung in 2020
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 447013670

Wir beantragen eine Reaktive Ionenätzanlage (induktiv gekoppeltes Plasma) mit Plasmaunterstützer Schichtdeposition als Clusteranlage. Sie wird die Möglichkeiten der maßgeschneiderten Probenherstellung am Lehrstuhl für Angewandte Physik entscheidend erweitern. Insbesondere werden wir uns der dreidimensionalen Strukturierung von Bauelementen aus Siliziumkarbid widmen, um neuartige Bauelemente zur Erforschung der Licht-Materie-Wechselwirkung und neuer Quantentechnologien zu entwickeln. Die Anlage wird für isotropes und anisotropes Ätzen mit Fluor- und Chlorgasen eingesetzt werden. Zur Herstellung dünner, maßgeschneiderter Schichten, insbesondere dünner Ätzmasken und Opferschichten, wird eine plasmaunterstütze Abscheidung in einer zweiten Kammer benötigt. Die neuartige Technik der atomlagengenauen Ätzung wird methodisch untersucht werden.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Großgeräte: Plasmaätz- und Beschichtungs-Clusteranlage
• Gerätegruppe: 8330 Vakuumbedampfungsanlagen und -präparieranlagen für Elektronenmikroskopie
• Antragstellende Institution: Friedrich-Alexander-Universität Erlangen-Nürnberg
• Leiter: Professor Dr. Heiko B. Weber