Low-pressure Chemical Vapour Deposition System

• Fachliche Zuordnung: Systemtechnik
• Förderung: Förderung in 2021
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 450136577

Für die chemische Gasphasenabscheidung von Dünnfilmmaterialien hoher optischer Qualität wird ein low pressure chemical vapour (LPCVD) System benötigt. Für geplante Forschungsarbeiten zur Nanophotonik und Quantenphotonik, sowie für Forschungsprojekte in der Materialphysik ist es erforderlich maßgeschneiderte Silizium-Nitrid und Silizium-Dioxid Dünnfilme auf Waferebene abscheiden zu können. Mit Hilfe des LPCVD Verfahrens sollen hochtransparente Dünnfilme abgeschieden werden, welche es erlauben Nanooptische Strukturen mit kleinsten Verlustfaktoren herzustellen. Diese sollen zur Herstellung optischer Resonatoren dienen und sowohl für die Quantenphotonik, als auch für neuromorphe Rechnerarchitekturen eingesetzt werden. Insbesondere soll das System die Herstellung von Multi-lagen Strukturen ermöglichen, um neuartige photonische Schaltkreise mit 3D Charakter herstellen zu können.Durch die Installation im Zentrum für Soft Nanoscience (SoN) soll das Gerät einem breiten Nutzerkreis zugänglich gemacht werden. Geplante Forschungsprojekte zur Nanophotonik, Quantenphotonik und interdisziplinäre Projekte in der Münster Nanofabrication Facility sollen reproduzierbar mit dem System durchgeführt werden und Synergien im SoN wecken. Das Gerät soll komplementäre Nanoprozessierung zu vorhandenen Technologien bieten und mit bisher verfügbaren Systemen kompatibel sein.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Großgeräte: Low-pressure Chemical Vapour Deposition System
• Gerätegruppe: 0920 Atom- und Molekularstrahl-Apparaturen
• Antragstellende Institution: Universität Münster
• Leiter: Professor Dr. Wolfram Hans Peter Pernice, bis 12/2022; Professor Dr. Carsten Schuck, seit 1/2023