Neuartige Vorstufen für die räumlich getrennte Atomlagenabscheidung und Plasmaprozesse zur Herstellung von funktionellen Materialien in der fortgeschrittenen Anwendung

• Antragstellerin: Professorin Dr. Anjana Devi
• Fachliche Zuordnung: Herstellung und Eigenschaften von Funktionsmaterialien ; Beschichtungs- und Oberflächentechnik ; Festkörper- und Oberflächenchemie, Materialsynthese
• Förderung: Förderung seit 2021
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 490773082

Der vorliegende Projektantrag konzentriert sich auf die Entwicklung und Untersuchung neuer metallorganische Vorstufen und Plasmaprozesse, die speziell für die räumlich-getrennte Atomlagenabscheidung (engl.: Spatial Atomic Layer Deposition, SALD) ausgelegt sind. Insbesondere sollen neue Ag-, Cu- und Ga-Vorstufen synthetisiert und innovative atmosphärische plasma-unterstützte SALD-Prozesse entwickelt werden. Mit den neuen Vorstufen und Prozessen werden Nanomaterialien hergestellt, die bisher nicht durch SALD hergestellt werden konnten, insbesondere AgCuO2, β-Ga2O3, CuGaO2 sowie verschiedene Oxynitride (TiNO, AlON). Diese Nanomaterialien werden dann als aktive Komponenten in verschiedenen optoelektronischen Materialien und Geräten eingesetzt, wie z. B. als transparente leitfähige Elektroden und volloxid Solarzellen.

• DFG-Verfahren: Sachbeihilfen
• Internationaler Bezug: Frankreich
• Kooperationspartner: Privatdozent Dr. David Muñoz-Rojas