Kinetics and spectroscopy of fluorine-silicon compounds
Final Report Abstract
Ziel dieses Vorhabens war die Untersuchung der thermischen Dissoziation von Fluor-Silizium-Verbindungen in Stoßwellen, woraus sich durch theoretische Analyse auch Aussagen über die Geschwindigkeiten der Rückreaktionen, d. h. von Radikal-Rekombinations- Reaktionen gewinnen lassen, wie sie für das Plasmaätzen von festem Silizium von Bedeutung sind. Besondere Aufmerksamkeit galt dem SiF2-Radikal, dessen Bildung aus der Dissoziation von Si(CH3)2F2 und dessen Dissoziation zu SiF + F untersucht wurden. Die UV-Absorptions- Spektren dieses Radikals (sowie auch des SiF) bei hohen Temperaturen wurden vermessen und analysiert. Ein Vergleich kinetischer Daten der Fluor-Silizium- Chemie mit analogen Daten der Fluor-Kohlenstoff-Chemie ergab Hinweise auf systematisch effizienteren Energieaustausch in Stößen zwischen den angeregten Molekülen und Trägergas (Ar)-Atomen. Die abgeleiteten Ausdrücke der Geschwindigkeitskoeffizienten der thermischen Dissoziationen von Si(CH3)2F2 , SiF4, SiF3 und SiF2 erlaubten eine kompakte Darstellung der entsprechenden Ausdrücke auch für die Rückreaktionen, so wie sie für praktische Anwendungen von Bedeutung sind.
Publications
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Shock wave and modelling study of the unimolecular dissociation of Si(CH3)2F2: an access to spectroscopic and kinetic properties of SiF2. Physical Chemistry Chemical Physics, 23(39), 22437-22442.
Cobos, C. J.; Sölter, L.; Tellbach, E. & Troe, J.
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The Thermal Dissociation–Recombination Reactions of SiF4, SiF3, and SiF2: A Shock Wave and Theoretical Modeling Study. The Journal of Physical Chemistry A, 126(47), 8871-8877.
Cobos, Carlos J.; Sölter, Lars; Tellbach, Elsa & Troe, Jürgen
