Elektronenstrahllithografiesystem

• Fachliche Zuordnung: Materialwissenschaft
• Förderung: Förderung in 2007
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 51093891

"In der Region Mittelhessen gibt es momentan keinen modern eingerichteten Reinraum mitzeitgemäßer Lithografieausstattung (Elektronenstrahllithografie und Fotolithografie) undentsprechenden Strukturübertragungsmöglichkeiten (mittels nasschemischem Ätzen,Reaktivionenätzen, Ionenstrahlätzen etc.), der es ermöglichte, gezielt künstliche Nanostrukturen bzw.deren Trägermaterialien herzustellen. Die Mikro- und Nanostrukturierung mittels lithografischerVerfahren und anschließender Strukturübertragung ist ein wesentlicher Bestandteil der modernenBauelemententwicklung und -herstellung in allen Anwendungsfeldern (Halbleitertechnologie, Sensorik,Katalyse, Biotechnologie, Medizintechnik etc.). Mikro- und Nanostrukturierung ermöglicht oft erst diekontrollierte Kombination und Integration neuer Nanostrukturen in und zu Bauelementen, was zuraktiven Nutzung der maßgeschneiderten Eigenschaften solcher Nanostrukturen unerlässlich ist, indemes Bauelemente mit neuen Funktionalitäten schafft. Das beantragte Elektronenstrahllithografiesystemist sowohl für Forschung auf interna-tionalem Niveau als auch für die Doktoranden-Ausbildung in denin Gießen neu eingerichteten Materialwissenschaftlichen Studiengängen unerlässlich."

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Gerätegruppe: 5120 Rasterelektronenmikroskope (REM)
• Antragstellende Institution: Justus-Liebig-Universität Gießen
• Leiter: Professor Dr. Bruno Karl Meyer (†)