Hochfrequenz-Hohlkathodenplasma-Matrizen bei atmosphärischem Druck für die Oberflächenbeschichtung, -modifikation und Reinigung

• Antragsteller: Professor Dr.-Ing. Jürgen Engemann
• Fachliche Zuordnung: Elektronische Halbleiter, Bauelemente und Schaltungen, Integrierte Systeme, Sensorik, Theoretische Elektrotechnik
• Förderung: Förderung von 2000 bis 2006
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 5266496

Hochfrequenzangeregte Hohlkathodenplasma-Matrizen bei atmosphärischem Druck sollen für Anwendungen in der Oberflächenbeschichtung und -modifikation in den Grundlagen untersucht, charakterisiert und in Anwendungen getestet werden. Es ist geplant, die Plasmaquellen ausgehend von den bereits existierenden, bei einem Druck im mbar-Bereich arbeitenden Multijet-Plasmaquellen zu entwickeln. Als Trägergase sollen Helium sowie verschiedene reaktive Gase verwendet werden. Für die Modellierung dieser Plasmaquellen werden strömungsmechanische Berechnungen verknüpft mit einem elektrischen Ersatzschaltbild eingesetzt. Es ist vorgesehen, die Eigenschaften der erzeugten Plasmen insbesondere durch orts- und zeitaufgelöste optische Emissionsspektroskopie zu charakterisieren. Damit sollen Matrixgeometrie, Gasflüsse und Leistungseinkopplung optimiert werden. Weiterhin ist geplant, die Eignung zur Reinigung bzw. Modifikation von Oberflächen exemplarisch zu untersuchen im Hinblick auf z.B. Abscheideverhalten und Wärmebelastung.

• DFG-Verfahren: Sachbeihilfen