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Untersuchungen zur Deep-UV-Shearing-Interferometrie für 193nm Excimer-Laserstrahlung mit geringer zeitlicher und räumlicher Kohärenz

Fachliche Zuordnung Optik, Quantenoptik und Physik der Atome, Moleküle und Plasmen
Förderung Förderung von 2003 bis 2006
Projektkennung Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 5404834
 
Die optische Lithographie ist inzwischen in den Bereich "tiefer" UV-Wellenlängen (Deep-UV:DUV) vorgestoßen, so dass auch optische Messverfahren in diesem Bereich zunehmend gebraucht werden. Die Übertragung gewöhnlicher interferometrischer Verfahren auf DUV-Wellenlängen stellt aber insbesondere wegen der mangelhaften zeitlichen und räumlichen Kohärenzeigenschaften von Excimer-Lasern und der mit diesen Wellenlängen verbundenen Materialprobleme eine beträchtliche Herausforderung dar. Andererseits sind aber Tests bei Wellenlängen im Sichtbaren oft wenig aussagekräftig. Ein gravierendes Messproblem stellen beispielsweise die Strukturänderungen von Quarzglas bei Bestrahlung mit Excimer-LaserStrahlung bei 193 nm im Makrobereich dar. Hier soll eine neue Variante eines Shearing-Interferometrie-Konzepts erforscht und demonstriert werden, welches einerseits vom Strahlengang her unempfindlich gegenüber mechanischen Störungen ist und andererseits wegen der Verwendung diffraktiver Strahlteiler höchste Symmetrie garantiert. Shearing-Interferometrie verlangt natürlicherweise zumindest räumliche Kohärenz. Hier sind also besondere Maßnahmen im Beleuchtungssystem nötig, um die laterale Kohärenz bei möglichst homogener Ausleuchtung zumindest für diskrete Shear-Werte zu garantieren.
DFG-Verfahren Sachbeihilfen
 
 

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