Metalorganic copper precursors for Cu-ALD (Atomic Layer Deposition)

• Applicant: Professor Dr. Roland A. Fischer
• Subject Area: Chemical and Thermal Process Engineering
• Term: from 2003 to 2006
• Project identifier: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 5406451

Ziel des Kooperations-Projektes ist die Erforschung der precursorchemischen und verfahrenstechnischen Grundlagen für die Entwicklung eines technisch/industriell praktikablen Prozesses für Cu-ALD (atomic layer deposition) zur Implementation in Produktionszyklen von mikor- oder nanoelektrischen Bauelementen. Bochum leistet dazu Präparatin und Charakerisierung neuartiger, selbstreduzierender Cu-Precursor vorzugsweise auf der Basis von Cu(II)-Alkoxiden, bzw. u. U. auch gemischt substituierten Alkoxid/Amid bzw. Alkoxid(Amid)beta-Diketonatderivaten (z. B. Malonestern u. ä.). In Chonnam werden die ALD-Experimente durchgeführt und dabei insbesondre die Benetzungs- und Nukleationsphänomene untersucht, sowie die physikalischen (Morphologie, Stufenbedeckung, Vorzugsorientierung, Korngrößen etc.), chemischen und elektrischen Eigenschaften der Cu-Nanoschichten einschließlich der Grenzfläche ALD Cu und Substrat charakterisiert.

• DFG Programme: Research Grants
• International Connection: South Korea
• Participating Persons: Professorin Dr. Anjana Devi; Professor Dr. Do-Heyoung Kim