VGF-Einkristallzüchtung unter dem Einfluss externer Magnetfelder (B 07)

• Fachliche Zuordnung: Materialwissenschaft
• Förderung: Förderung von 2006 bis 2012
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 5485123

Das Ziel des Vorhabens besteht in der systematischen Erprobung und Verbesserung der im bisherigen Projektverlauf entwickelten VGF-Magnetfeld- Technologie zur Züchtung von einkristallinen Halbleitern unter optimierten Strömungsbedingungen. Dazu sind umfangreiche Studien zu den Einsatzmöglichkeiten und –grenzen der Technologie geplant. Eine große Bedeutung besitzen dabei auch neue Verfahren und Methoden, wie z. B. die Anwendung zeitmodulierter Felder und die in situ-Messung der Strömungsgeschwindigkeit in der Schmelze, die erstmals bei der Einkristallzüchtung eingesetzt werden sollen.

• DFG-Verfahren: Sonderforschungsbereiche
• Teilprojekt zu: SFB 609: Elektromagnetische Strömungsbeeinflussung in Metallurgie, Kristallzüchtung und Elektrochemie
• Antragstellende Institution: Technische Universität Dresden
• Mitantragstellende Institution: Technische Universität Bergakademie Freiberg
• Teilprojektleiter: Dr. Olf Pätzold