Selektives Wachstum und Geräteintegration von Dünnschichtmaterialien auf selbstorganisierten Monoschichten (F05)

• Fachliche Zuordnung: Herstellung und Eigenschaften von Funktionsmaterialien
• Förderung: Förderung seit 2025
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 538767711

Projekt F5 liefert Methoden zur Nukleationskontrolle und zum regiospezifischen Wachstum auf der Basis molekularer selbstorganisierter Monolagen (SAMs). Die molekulare Flexibilität, die SAMs bieten, wird eine gewisse Toleranz in epitaktische Beziehungen ermöglichen und die Integration hochwertiger Halbleiterschichten in Bauelemente ermöglichen. Strukturdesign auf der Ebene organischer Moleküle wird es dem Experimentator ermöglichen, die Strukturinformationen von einem Substratkristall auf die neu abgeschiedene Schicht zu übertragen, zu entkoppeln oder zu modifizieren. SAMs werden an C1, C2, C3, C4 und F3 geliefert, während F6 von den Charakterisierungsmethoden aus C5, S2, S3, S5, F1, F5 und der Molekulardynamik-Modellierung aus M3 profitieren wird.

• DFG-Verfahren: Sonderforschungsbereiche
• Teilprojekt zu: SFB 1719: ChemPrint -- Gedruckte Halbleiter der nächsten Generation: Ingenieurskunst auf atomarer Ebene mittels molekularer Oberflächenchemie
• Antragstellende Institution: Friedrich-Alexander-Universität Erlangen-Nürnberg
• Teilprojektleiter: Professor Dr. Marcus Halik, seit 7/2025