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Projekt
Reactive Ion Etcher (RIE)
Fachliche Zuordnung
Elektrotechnik und Informationstechnik
Förderung
Förderung in 2026
Projektkennung
Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 568740253
Die Reactive Ion Etching (RIE) Anlage wird für das trockenchemische Ätzen von Bauteilen eingesetzt. Die induktiv gekoppelte Plasmatechnologie (ICP, inductive-coupled plasma) erlaubt die kontrollierte Einstellung von Ätzprofilen und ermöglicht sowohl anisotropes, d.h. vertikales als auch isotropes Ätzen. Durch die Kombination von Fluor- und Chlorchemie lassen sich nahezu alle in der Mikro- und Nanoelektronik gängigen Materialien ätzen. Dazu gehören zum Beispiel alle Halbleitermaterialien auf Siliziumbasis (Si, SiC) und Siliziumdioxid, alle III-V-Halbleiter sowie viele Metalle und Supraleiter. Eine Ladeschleuse ist unerlässlich, um eine saubere Kammerchemie zu gewährleisten und den Durchsatz des Systems zu erhöhen. Die Endpunktdetektion mit einem Laserinterferometer ist für die Prozessüberwachung unerlässlich. Reine Argon-Ionen Sputterverfahren zur Oberflächenreinigung oder Sauerstoffplasmabestrahlung zur Entfernung von Lackrückständen sowie Faraday-Käfig-gestütztes Winkelätzen und einfache Atomschichtätzverfahren sind ebenfalls möglich. Eingebettet ist das Gerät in das Zentrale Elektronik- und Informationstechnologielabor (ZEITlab) der Technischen Universität München (TUM). Das ZEITlab ist eine Organisationseinheit der School of Computation, Information and Technology (SoCIT). Seit dem Jahr 2022 ist es im neuen Gebäude der Elektro- und Informationstechnik der TUM auf dem Campus Garching untergebracht. Das Zentrum besteht aus einem Reinraum mit einer Fläche von 950 m² und zugehörigen Charakterisierungslaboren. Seine Vision ist die Etablierung eines "Makerspace für Mikroelektronik-Prototypen“, der als breit aufgestelltes Technologiezentrum der SoCIT eine Vielzahl von Forschungsbereichen unterstützt. Im ZEITlab werden Proof-of-Concept-Demonstratoren im Bereich Elektronik und Sensorik auf der Basis moderner Materialien und Komponenten realisiert und für verschiedene Anwendungsfelder bereitgestellt. Diese Art des „Rapid Prototyping“ nutzt innovative Verarbeitungs- und Charakterisierungstechnologien und wird systematisch durch Schaltungsdesign und Modellierung ergänzt. Das ZEITlab stellt einer Vielzahl von Forschungsgruppen, die sich mit Themen wie Quanten- und Sensortechnologien, Mikro-, Opto- und Neuroelektronik sowie hybriden Nanosystemen beschäftigen, einen zentralen und gemeinsamen Zugang zur Mikro- und Nanofabrikation zur Verfügung. Die gebündelte Infrastruktur ermöglicht demzufolge einen effizienten Transfer von Technologien aus der Grundlagenforschung zu ingenieurtechnischen Fragestellungen und Anwendungen.
DFG-Verfahren
Forschungsgroßgeräte
Großgeräte
Reactive Ion Etcher
Antragstellende Institution
Technische Universität München (TUM)
