Atomic Layer Deposition System (ALD)

• Fachliche Zuordnung: Elektrotechnik und Informationstechnik
• Förderung: Förderung in 2026
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 568740625

Das System zur Atomlagenabscheidung (ALD) ermöglicht die hochpräzise und gleichzeitig sehr konforme Abscheidung dünner Schichten (Schichtdickenbereich typischerweise 1 nm - 50 nm), mit genau eingestellter chemischer Zusammensetzung. Insbesondere können hochwertige dielektrische Schichten überall gleichmäßig und in gleicher Dicke abgeschieden werden, auch auf Oberflächen mit komplexer Topographie (z. B. tiefe Gräben). Im Vergleich zu einfacheren ALD-Anlagen zeichnet sich das System dadurch aus, dass integrierte Plasmaprozesse zur optimierten Schichtabscheidung eingesetzt werden, aber auch in vielfältiger Weise zur Plasmabehandlung von Oberflächen (z.B. präzises Rückätzen von Schichten) genutzt werden können. Eine optionale Ausstattung mit in-situ Analytik (Ellipsometer zur Schichtdickenmessung) ist anlagenseitig vorbereitet. Eingebettet ist das Gerät in das Zentrale Elektronik- und Informationstechnologielabor (ZEITlab) der Technischen Universität München (TUM). Das ZEITlab ist eine Organisationseinheit der School of Computation, Information and Technology (SoCIT). Seit dem Jahr 2022 ist es im neuen Gebäude der Elektro- und Informationstechnik der TUM auf dem Campus Garching untergebracht. Das Zentrum besteht aus einem Reinraum mit einer Fläche von 950 m² und zugehörigen Charakterisierungslaboren. Seine Vision ist die Etablierung eines "Makerspace für Mikroelektronik-Prototypen“, der als breit aufgestelltes Technologiezentrum der SoCIT eine Vielzahl von Forschungsbereichen unterstützt. Im ZEITlab werden Proof-of-Concept-Demonstratoren im Bereich Elektronik und Sensorik auf der Basis moderner Materialien und Komponenten realisiert und für verschiedene Anwendungsfelder bereitgestellt. Diese Art des „Rapid Prototyping“ nutzt innovative Verarbeitungs- und Charakterisierungstechnologien und wird systematisch durch Schaltungsdesign und Modellierung ergänzt. Das ZEITlab stellt einer Vielzahl von Forschungsgruppen, die sich mit Themen wie Quanten- und Sensortechnologien, Mikro-, Opto- und Neuroelektronik sowie hybriden Nanosystemen beschäftigen, einen zentralen und gemeinsamen Zugang zur Mikro- und Nanofabrikation zur Verfügung. Die gebündelte Infrastruktur ermöglicht demzufolge einen effizienten Transfer von Technologien aus der Grundlagenforschung zu ingenieurtechnischen Fragestellungen und Anwendungen.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Großgeräte: Atomic Layer Deposition System
• Antragstellende Institution: Technische Universität München (TUM)
• Leiter: Professor Dr.-Ing. Markus Becherer