Physical Vapor Deposition System (PVD)

• Fachliche Zuordnung: Elektrotechnik und Informationstechnik
• Förderung: Förderung in 2026
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 568740711

Mit dem System für physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) können Proben mit dünnen Metallschichten beschichtet werden. Die Dicke lässt sich präzise steuern, von wenigen Nanometer bis zu einigen Mikrometern. Zudem können Schichtfolgen verschiedener Metalle aufgebracht werden. Da der Prozess im Ultrahochvakuum abläuft, sind Schichten von höchster Reinheit möglich, die zudem eine extrem geringe Oberflächenrauheit aufweisen. Typische Anwendungen sind die elektrische Kontaktierung von Halbleiterbauelementen und integrierten Schaltkreisen, breitbandige Spiegel in optoelektronischen Bauelementen sowie Hartmasken für nachfolgende Ätzprozesse bei der Herstellung von Halbleiter Mikro- und Nanostrukturen. Eingebettet ist das Gerät in das Zentrale Elektronik- und Informationstechnologielabor (ZEITlab) der Technischen Universität München (TUM). Das ZEITlab ist eine Organisationseinheit der School of Computation, Information and Technology (SoCIT). Seit dem Jahr 2022 ist es im neuen Gebäude der Elektro- und Informationstechnik der TUM auf dem Campus Garching untergebracht. Das Zentrum besteht aus einem Reinraum mit einer Fläche von 950 m² und zugehörigen Charakterisierungslaboren. Seine Vision ist die Etablierung eines "Makerspace für Mikroelektronik-Prototypen“, der als breit aufgestelltes Technologiezentrum der SoCIT eine Vielzahl von Forschungsbereichen unterstützt. Im ZEITlab werden Proof-of-Concept-Demonstratoren im Bereich Elektronik und Sensorik auf der Basis moderner Materialien und Komponenten realisiert und für verschiedene Anwendungsfelder bereitgestellt. Diese Art des „Rapid Prototyping“ nutzt innovative Verarbeitungs- und Charakterisierungstechnologien und wird systematisch durch Schaltungsdesign und Modellierung ergänzt. Das ZEITlab stellt einer Vielzahl von Forschungsgruppen, die sich mit Themen wie Quanten- und Sensortechnologien, Mikro-, Opto- und Neuroelektronik sowie hybriden Nanosystemen beschäftigen, einen zentralen und gemeinsamen Zugang zur Mikro- und Nanofabrikation zur Verfügung. Die gebündelte Infrastruktur ermöglicht demzufolge einen effizienten Transfer von Technologien aus der Grundlagenforschung zu ingenieurtechnischen Fragestellungen und Anwendungen.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Großgeräte: Physical Vapor Deposition System
• Antragstellende Institution: Technische Universität München (TUM)
• Leiter: Professor Dr.-Ing. Markus Becherer