Detailseite
Projekt
Maskless Lithography (MLL)
Fachliche Zuordnung
Elektrotechnik und Informationstechnik
Förderung
Förderung in 2026
Projektkennung
Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 568740814
Das maskenlose Lithographiesystem (MLL) dient der Strukturierung lichtempfindlicher Polymerschichten (Fotolacke), einer allgegenwärtigen Produktionsmethode in der Halbleitertechnik. Das Gerät arbeitet mit einer so genannten maskenlosen Technologie und belichtet lichtempfindliche Schichten mit Hilfe einer digitalen Maske. Das Gerätedesign ermöglicht es, Bauteile schnell aus digital generierten Layoutdateien zu entwerfen und in koordinierten Fertigungsschritten prototypisch herzustellen. Das Gerät macht damit langwierige Strukturierungsprozesse mit Chrommasken überflüssig. Das System ermöglicht Strukturgrößen nahe der optischen Auflösungsgrenze von 0,6 Mikrometern auf 6-Zoll-Substraten. Typische Anwendungen sind die sehr schnelle und präzise Belichtung lichtempfindlicher Filme zur Strukturierung von Bauelementen, z. B. für supraleitende Elektronik, mikromechanischen Strukturen, Elektroden oder Memristoren, die prototypische Erzeugung leitfähiger Kontakte zu nanoskaligen Bauelementen, die mittels Elektronen- und Ionenstrahllithographie hergestellt werden, sowie die Strukturierung von 3D-Fluidstrukturen unter Verwendung von SU8-Resists und anderen Dickschichtpolymeren. Eingebettet ist das Gerät in das Zentrale Elektronik- und Informationstechnologielabor (ZEITlab) der Technischen Universität München (TUM). Das ZEITlab ist eine Organisationseinheit der School of Computation, Information and Technology (SoCIT). Seit dem Jahr 2022 ist es im neuen Gebäude der Elektro- und Informationstechnik der TUM auf dem Campus Garching untergebracht. Das Zentrum besteht aus einem Reinraum mit einer Fläche von 950 m² und zugehörigen Charakterisierungslaboren. Seine Vision ist die Etablierung eines "Makerspace für Mikroelektronik-Prototypen“, der als breit aufgestelltes Technologiezentrum der SoCIT eine Vielzahl von Forschungsbereichen unterstützt. Im ZEITlab werden Proof-of-Concept-Demonstratoren im Bereich Elektronik und Sensorik auf der Basis moderner Materialien und Komponenten realisiert und für verschiedene Anwendungsfelder bereitgestellt. Diese Art des „Rapid Prototyping“ nutzt innovative Verarbeitungs- und Charakterisierungstechnologien und wird systematisch durch Schaltungsdesign und Modellierung ergänzt. Das ZEITlab stellt einer Vielzahl von Forschungsgruppen, die sich mit Themen wie Quanten- und Sensortechnologien, Mikro-, Opto- und Neuroelektronik sowie hybriden Nanosystemen beschäftigen, einen zentralen und gemeinsamen Zugang zur Mikro- und Nanofabrikation zur Verfügung. Die gebündelte Infrastruktur ermöglicht demzufolge einen effizienten Transfer von Technologien aus der Grundlagenforschung zu ingenieurtechnischen Fragestellungen und Anwendungen.
DFG-Verfahren
Forschungsgroßgeräte
Großgeräte
Maskless Lithography
Antragstellende Institution
Technische Universität München (TUM)
