Xenon Difluoride Etching System (XEF2)

• Fachliche Zuordnung: Elektrotechnik und Informationstechnik
• Förderung: Förderung seit 2026
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 568740890

Keine Zusammenfassung vorhanden

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Großgeräte: Xenon Difluoride Etching System
• Antragstellende Institution: Technische Universität München (TUM)
• Leiter: Professor Dr.-Ing. Markus Becherer