Xenon Difluoride Etching System (XEF2)

• Fachliche Zuordnung: Elektrotechnik und Informationstechnik
• Förderung: Förderung in 2026
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 568740890

Das Xenondifluorid-Ätzsystem (XEF2) ermöglicht das hochselektive Ätzen von Silizium gegenüber verschiedenen Materialien (Siliziumdioxid, Siliziumnitrid, Fotolacke, Metalle etc.) in einem trockenen und plasmafreien Prozess. Damit eignet es sich besonders für die schonende Herstellung von empfindlichen selbsttragenden nano- und mikromechanischen Bauteilen. Sowohl eine Schädigung der Strukturen beim Trocknen als auch eine plasmainduzierte Schädigung werden vermieden. Typische Anwendungen sind das Unterätzen von selbsttragenden Komponenten wie sie bei mikro- oder nanomechanischen Bauteilen vorzufinden sind, sowie auch das Herstellen photonischer Wellenleiter auf Siliziumsubstraten. Eingebettet ist das Gerät in das Zentrale Elektronik- und Informationstechnologielabor (ZEITlab) der Technischen Universität München (TUM). Das ZEITlab ist eine Organisationseinheit der School of Computation, Information and Technology (SoCIT). Seit dem Jahr 2022 ist es im neuen Gebäude der Elektro- und Informationstechnik der TUM auf dem Campus Garching untergebracht. Das Zentrum besteht aus einem Reinraum mit einer Fläche von 950 m² und zugehörigen Charakterisierungslaboren. Seine Vision ist die Etablierung eines "Makerspace für Mikroelektronik-Prototypen“, der als breit aufgestelltes Technologiezentrum der SoCIT eine Vielzahl von Forschungsbereichen unterstützt. Im ZEITlab werden Proof-of-Concept-Demonstratoren im Bereich Elektronik und Sensorik auf der Basis moderner Materialien und Komponenten realisiert und für verschiedene Anwendungsfelder bereitgestellt. Diese Art des „Rapid Prototyping“ nutzt innovative Verarbeitungs- und Charakterisierungstechnologien und wird systematisch durch Schaltungsdesign und Modellierung ergänzt. Das ZEITlab stellt einer Vielzahl von Forschungsgruppen, die sich mit Themen wie Quanten- und Sensortechnologien, Mikro-, Opto- und Neuroelektronik sowie hybriden Nanosystemen beschäftigen, einen zentralen und gemeinsamen Zugang zur Mikro- und Nanofabrikation zur Verfügung. Die gebündelte Infrastruktur ermöglicht demzufolge einen effizienten Transfer von Technologien aus der Grundlagenforschung zu ingenieurtechnischen Fragestellungen und Anwendungen.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Großgeräte: Xenon Difluoride Etching System
• Antragstellende Institution: Technische Universität München (TUM)
• Leiter: Professor Dr.-Ing. Markus Becherer